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Monolayer tungsten disulfide (1H-WS?) flakes have been exfoliated from bulk tung...

Monolayer tungsten diselenide (1H-WSe?) flakes have been exfoliated from bulk tu...

Substrate:Sapphire (c-cut)Quartz (Silica)TEM grids (please supply grids)Thermal ...

Newly acquired ion implantation accelerator unit allows 2Dsemiconductors USA to ...

基于SiO2/Si晶片的雙層CVD石墨烯薄膜將兩層單層CVD石墨烯膜轉(zhuǎn)移到285nm p摻雜的SiO 2 / Si晶片上尺寸：1cmx1cm; 8片將每個(gè)石墨烯...

德國(guó)2D Next主要提供機(jī)械剝離的超大尺寸二維材料，可以提供在眾多基底上的轉(zhuǎn)移技術(shù)，如二氧化硅，藍(lán)寶石，CVD金剛石等，可用材料包括MoS2，MoSe2，WS...

Chemical vapor deposited (CVD) GaSe films have been synthesized at our facilitie...

超高純 ZrS2粉末（1g）純度：99.9999%重量：1g制備方法：使用再提純后的超高純單質(zhì)高真空密封燒結(jié)用途：用于生長(zhǎng)制備二維晶體材料

高純 ZrSe2粉末（1g）純度：99.9995%重量：1g制備方法：使用再提純后的超高純單質(zhì)高真空密封燒結(jié)用途：用于生長(zhǎng)制備二維晶體材料

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高純 ZrTe3粉末（1g）純度：99.9995%重量：1g制備方法：使用再提純后的超高純單質(zhì)高真空密封燒結(jié)用途：用于生長(zhǎng)制備二維晶體材料

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高純BiTe粉末（1g）純度：99.9995%重量：1g制備方法：使用再提純后的超高純單質(zhì)高真空密封燒結(jié)用途：用于生長(zhǎng)制備二維晶體材料低維材料在線提供眾多超高純...

超高純BiTe粉末（1g）純度：99.9999%重量：1g制備方法：使用再提純后的超高純單質(zhì)高真空密封燒結(jié)用途：用于生長(zhǎng)制備二維晶體材料

高純Ta2NiSe5粉末（1g）純度：99.9995%重量：1g制備方法：使用再提純后的超高純單質(zhì)高真空密封燒結(jié)用途：用于生長(zhǎng)制備二維晶體材料

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高純Sb2Te3粉末（1g）純度：99.9995%重量：1g制備方法：使用再提純后的超高純單質(zhì)高真空密封燒結(jié)用途：用于生長(zhǎng)制備二維晶體材料

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白云母 MICA muscovite V1 (Muscovite, K2O-Al2O3-SiO2)晶體尺寸：~25mm電學(xué)性能：絕緣體晶體結(jié)構(gòu)：?jiǎn)涡本ЫY(jié)構(gòu)晶胞參...

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