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Cameca推出Eikos-UV™用于研究和工業的工作馬原子探針顯微鏡
美國威斯康星州麥迪遜——科學儀器和計量解決方案的實踐者阿美特克·卡麥卡很高興地宣布發布新的原子探針顯微鏡Eikos-UV。Eikos-UV是一種工作馬原子探針顯微鏡，使用方便，擁有成本低。它利用標準的顯微鏡樣品制備方法，提供納米級的結構信息，使人們對用于研究的材料有了新的認識，并加快了工業應用產品的開發。
“Cameca非常自豪地介紹了Eikos-UV，”Cameca業務部門經理JesseOlson博士說。“我們相信，在電壓脈沖模式和紫外激光脈沖模式下，Eikos-UV將使許多新的顯微鏡、研究人員和工程師能夠接觸到原子探針層析成像技術，使他們能夠在原子水平上對材料進行成像。”
奧爾森繼續說：“Cameca在原子探針層析成像儀器和應用開發方面取得了30多年的成功，提供了新的Eikos-UV平臺，我們旨在大限度地利用該平臺開發商業合金和大學一級的基礎研究。Eikos-UV的設計、布局和足跡為現場要求提供了靈活性，同時由于兩大儀器創新，高可靠性和易用性成為可能：一個集成的預對準電極，消除了現場對準的需要，一個新的355nm激光器R脈沖系統。”
Eikos-UV可處理各種應用，包括金屬、半導體、功能材料、礦物、核結構材料、薄膜和涂層。它的標準樣品制備方法和成熟的數據分析程序使其成為納米材料研究和工業材料開發的一個經濟有效的工作平臺，并且是Cameca原子探針斷層掃描產品線的一個有價值的補充。
Eikos-UV有兩種配置。個是基礎Eikos系統，它結合了反射光譜儀的設計，為電壓脈沖系統提供出色的質量分辨率和信噪比，以確保在各種冶金應用中具有*的數據質量。第二個是*配置的Eikos-UV系統，它增加了一個集成的、自動的激光脈沖模塊，采用計算機控制的焦點設計，以提供更大的應用范圍和更高的信噪比。基礎Eikos系統可現場升級至Eikos-UV。
原子探針層析成像(APT或3dampt)是一種能在原子尺度上同時進行三維空間成像和化學成分測量的材料分析技術。自20世紀60年代發展以來，該技術為材料科學的重大進步做出了貢獻。原子探針顯微鏡是由Cameca自己開發和制造的，被世界各地的研究和開發實驗室使用。
Cameca Atom Probe體層攝影產品線現在包括兩個系列：Leap 5000(局部電極原子探針)，它提供了快、靈敏的3D成像和分析，在廣泛的應用范圍(金屬、氧化物、陶瓷、*儲能器)內具有納米級分辨率。GE材料、半導體和電子、生物礦物和地球化學);以及樶新推出的Eikos-UV系列，它提供了原子探針層析成像的可訪問性，提高了易用性，并降低了學術和工業應用的擁有成本。
關于Cameca
Cameca®在材料微觀和納米分析科學儀器的設計、制造和服務方面擁有60多年的經驗。自20世紀50年代電子探針微分析(EPMA)儀器和20世紀60年代二次離子質譜(SIMS)以來，Cameca一直是*的者，同時在低能電子誘導劑等互補技術方面取得了許多突破性的創新。ED x射線發射光譜法(lexes)和原子探針層析成像(apt)。
Cameca總部位于巴黎附近，在美國麥迪遜WI(Leap 5000和Eikos-UV原子探針的設計和制造地)以及巴西、中國、英國、德國、印度、日本、韓國、俄羅斯和中國臺灣等地設有生產設施。Cameca是Ametek®Inc.材料分析部門的業務部門，是的電子儀器和機電產品制造商，年銷售額約50億美元。