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HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV介紹

閱讀:996        發布時間:2021-12-29

 

HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV概述

專為VUV 測量設計,整個系統處于真空狀態,無氧氣吸收。具備高度準確性;獨YI無二的超快測量速度;快速樣品室抽真空能力,方便快速更換樣品;氮氣消耗量少。

重點應用領域

  • 超薄膜

  • 157nm 光刻新材料

  • 有機材料、高分子材料

  • 高k 材料:HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz

  • 抗反射涂層

  • 半導體和介電材料電子躍遷

  • MgF2、CaF2、LaF3

HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV特點

★ 50KHz 高頻PEM 相位調制技術

★ 45 秒內完成充氮氣

★ 2 分鐘內完成樣品室抽真空

★ 8 分鐘內完成光譜全譜范圍內測量

★ 兩種工作模式:氮氣清洗結合抽

★ 真空、連續氮氣清洗

★ 光譜范圍:147nm~850nm;147nm~2100nm

 

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