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[供應]勻膠顯影機LH3-SC200-DE
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  • 勻膠顯影機LH3-SC200-DE
貨物所在地:
北京北京市
更新時間:
2023-12-19 21:00:06
有效期:
2023年12月19日 -- 2024年6月19日
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617
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產品簡介

北京精測電子研發的勻膠顯影機,價格經濟,既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備。

詳細介紹

勻膠顯影機  

 

勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實現價值百萬美元設備(track)的上才可能達到穩定性和均勻性。  

不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀;工業級別400瓦伺服電機系統,采用與track設備相同設計和程序,使您的工藝更具有實際應用意義;同類產品中的zui大達到50000RPM/S的旋轉加速度,確保勻膠和顯影的穩定性和*的可重復性。  

 

主要性能指標:

主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學腐蝕易清潔)  

旋涂程序:zui多可存100組程序,每組100步,每個步驟可精確到0.1秒  

轉動速度:0-5,000rpm(更高速可選)  

旋涂加速度:0-10,000rpm/sec(空載)  

馬達旋涂轉速穩定性能誤差<±1rpm  

轉速調節精度<1rpm,重復性<1rpm  

工藝時間設定:0-3,000sec/step,時間設置精度:0.1sec  

支持wafer尺寸1cm-300mm(12“圓晶)  

標準配置兩路噴液系統(顯影液和去離子水)

 

產品特性優點:  

主機在之前的勻膠機上升級,增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋  

全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果  

可實現zui多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進行氮氣吹干  

控制器可實現程序自動控制噴液或進行手動操作,使用更加方便  

顯影系統可進行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進行配置  

提供客戶定制化的顯影系統配置和工裝設計  

高可靠性和重復性,高轉速精度和更高轉速可選  

可添加去邊膠和背膠清洗功能

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