產品介紹

氫氟酸（HF）是一種無色透明的液體，具有刺激性氣味，具備腐蝕性和毒性。氫氟酸能夠強烈腐蝕金屬、玻璃等多種材料，還易溶于水并形成溶液，具有揮發性，會釋放出氟化氫氣體。

在泛半導體制造中，氫氟酸被廣泛應用于晶圓清洗，用于去除表面污染物以提高潔凈度；在氧化層刻蝕中，它能精確控制刻蝕深度和均勻性，實現精細圖形的轉移，同時還參與表面處理和化學拋光等工藝。然而，氫氟酸的濃度控制至關重要，它直接影響刻蝕速率和均勻性，進而關系到芯片的性能和良率。濃度過高可能損傷精密設備，而濃度過低則無法達到理想的工藝效果。此外，控制氫氟酸濃度還能確保操作人員的安全，避免因接觸高濃度氫氟酸而造成傷害。

楚一測控氫氟酸濃度在線監測儀為泛半導體行業的氫氟酸濃度監測提供了創新解決方案。傳統的離線分析方法不僅耗時、易出錯，更無法滿足行業對實時監控的嚴苛要求。而氫氟酸濃度在線監測儀專為泛半導體行業設計，能夠對生產過程中的氫氟酸濃度進行實時監測，滿足行業對高精度、高可靠性的需求。它可以在線監測晶圓清洗槽中的氫氟酸濃度，確保清洗效果穩定；實時監控刻蝕液中的氫氟酸濃度，實現對刻蝕工藝的精確控制；還能用于氫氟酸回收系統，優化回收效率，降低生產成本。在線折光儀的實時監控功能能夠快速響應，及時反映濃度變化，避免批次間的差異；其無損測量方式不接觸樣品，避免污染，保證工藝的純凈度；并且可以與控制系統集成，實現自動化調節，提高生產效率。

氫氟酸濃度在線監測儀基于折光原理進行測量。光線從棱鏡射入氫氟酸溶液時會發生折射現象，折射角的大小與氫氟酸的濃度有關，濃度越高，折射角越大。通過測量折射角并結合溫度補償，儀表可以精準計算出氫氟酸的濃度。這種測量方式具有諸多優勢：折射率測量精度高，能夠準確反映濃度變化；抗干擾能力強，受樣品顏色和濁度的影響小；結構簡單，維護成本低。

選擇氫氟酸濃度在線監測儀，您將獲得專為泛半導體行業優化的高性能設備。我們采用特種耐氫氟酸腐蝕材質（超純PTFE、PFA），確保儀表在苛刻的化學環境中長期穩定運行，避免腐蝕造成的測量誤差。高精度光學傳感器和能夠實現對氫氟酸濃度的準確測量，滿足泛半導體行業對高精度的需求。內置高精度溫度傳感器可實現自動溫度補償，消除溫度變化對測量結果的影響，保證測量精度。同時，我們還提供定制化服務，可根據客戶的具體工藝需求，提供個性化的解決方案。

技術參數