詳細介紹
產品介紹
在半導體清洗工藝中,控制 NMP 濃度至關重要,而基于折光原理的CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀正是該領域的主流選擇之一,能有效助力半導體清洗提升良率。
半導體清洗需要控制 NMP濃度。NMP是高效的光刻膠剝離劑和清洗溶劑,濃度直接影響其溶解能力。濃度過低會導致清洗困難,出現光刻膠殘留;濃度過高則可能造成過度刻蝕或損傷敏感結構。此外,濃度波動會使晶圓批次間的清洗效果出現差異,成為良率波動的潛在因素。
CYR-E-NMP-在線NMP濃度檢測儀檢測NMP濃度具有諸多優勢。它能夠實時連續監測,提供每秒更新的濃度數據,及時反饋清洗槽或循環管路中 NMP 的實際狀態,快速響應異常情況,避免整批晶圓報廢。現代在線折光儀在 NMP 的典型工作濃度范圍內精度高,測量基于物理光學原理,不受溶液顏色、氣泡、懸浮物等干擾,穩定性優于電導率或 pH 法。儀表設計良好,無耗材,減少長期運營成本和維護頻次。
在半導體清洗中,NMP 濃度在線分析儀有多個典型應用點,如光刻膠剝離槽主槽或循環管路中 NMP 工作液濃度的實時監控與自動補液,清洗 / 漂洗槽監控 NMP 殘留或回收液濃度,NMP 回收系統監測蒸餾提純后 NMP 的純度,以及廢液處理前監控確保廢液濃度符合處理裝置要求。
產品參數
產品型號 | CYR-E-NMP |
測量項目 | 折射率、溫度、濃度 |
測量范圍 | 0-100% |
分 辨 率 | 0.01% |
重復精度 | ± 0.02% |
測量溫度 | 0至130℃ |
溫度補償 | 0-130℃ |
關鍵材質 | 觸液面材質:超純PTFE或PFA;外殼:襯氟 |
棱鏡材質 | 光學級藍寶石 |
信號輸出 | DC4至20mA & RS485;2路開關量信號輸出 |
輸入電源 | DC 24V 或 AC 220V |
防護等級 | IP65 |
工藝壓力 | ≤1MPa(10Bar)更高壓力等級可定制 |
尺寸重量 | 傳感器:¢119 * 188mm / 約2.0KG |
安裝選項 | 1/2英寸管路安裝 |
其他功能 | 多功能主機操作面板可查看濃度、溫度、折射率等數據 支持故障碼提示、一鍵校零、恢復出廠設置、曲線記錄及數據導出等功能 |