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JK-CH600190-XRD冷熱臺
  • JK-CH600190-XRD冷熱臺
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貨物所在地:北京北京市

更新時間:2025-01-13 11:40:02

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JK-CH600190-XRD冷熱臺是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產品采用液氮致冷、電阻加熱的方式,提供-190~600℃(選型)或RT~1000℃(選型)溫度范圍內的氣氛/真空測試環境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進行X-射線結構研究,適配現有各種X-射線衍射儀(布魯克、賽默飛、理學等)。

JK-CH600190-XRD冷熱臺

JK-XRD原位冷熱臺是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產品采用液氮致冷、電阻加熱的方式,提供-190~600℃(選型)或RT~1000℃(選型)溫度范圍內的氣氛/真空測試環境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進行X-射線結構研究,適配現有各種X-射線衍射儀(布魯克、賽默飛、理學等)。

產品需要與溫度控制器、致冷控制器(選配)配套使用,配套的上位機溫控軟件方便進行溫度設置及采集,提供的Labview Vis方便客戶進行定制化編程。

產品特點:

溫度范圍-190~600℃(選型)/RT~1000℃(選型)

溫度穩定性±0.1℃(<600℃)±1℃(>600℃)

衍射角0~164°

X射線視窗Kapton膜

支持反射/透射模式

密腔室設計,可升級真空腔室(10^(-3) mBar)

可更換上蓋,作為普通冷熱臺使用

可調節高度,滿足不同厚度樣品測試更換上蓋,可用作光學冷熱臺,實現一機多用

詳細參數一覽表:

XRD原位冷熱臺

JK-CH600190XV

JK-H1200XV

溫控模塊

冷熱方式

液氮致冷,電阻加熱

電阻加熱

溫控范圍

-190~600℃ *

RT~1200℃ *

溫度穩定性

±0.1℃(<600℃),±1℃(>600℃)*

溫度分辨率

0.1℃

升降溫速率

0~30℃/min(可定點 / 程序段控溫)

溫控方式

PID

溫度傳感器

PT100

熱電偶

光學特性

光路

反射 *

X射線透射膜

Kapton膜

結構特性

樣品臺尺寸

23×23mm *

12x12mm *

樣品臺材質

銀質 *

陶瓷 *

外形尺寸

100×100×73mm *

腔室

真空

外殼冷卻

循環水

基本配置

XRD原位冷熱臺x1、溫度控制器x1、致冷控制器x1(低溫配置)、液氮罐x1(低溫配置)、定制支架x1、溫控軟件x1、循環水系統x1、連接管路若干

選配

電腦主機/定制溫控軟件/定制光學蓋板

備注

以上均為默認參數    * 為可定制項

其他可選型號

CH400-100-X(-100~400℃)

產品應用:

搭配理學X射線衍射儀 ↓

搭配理學X射線衍射儀.jpg

搭配賽默飛X射線衍射儀 ↓

搭配賽默飛X射線衍射儀.jpg

搭配布魯克X射線衍射儀 ↓

搭配布魯克X射線衍射儀.jpg



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