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Couloscope CMS2 STEP多層鎳層測厚儀
Couloscope CMS2 STEP多層鎳層測厚儀

地:德國

貨物所在地:上海上海市

更新時間:2025/2/21 15:01:51

訪問次數:141

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化:
www.fischerchina.cn
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www.dooz17.com/

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供應簡介
Couloscope CMS2 STEP多層鎳層測厚儀
多個鎳涂層的質量控制需要測量裝置,可以在涂層程序之后立即檢查厚度和電化學電位。 COULOSCOPE®CMS STEP測量系統由于其簡單的操作和參考電極的簡單操作,適用于電鍍廠惡劣環境中的應用,為此已開發出來。 電解鍍鎳用于裝飾性防腐蝕和改善機械表面性能,例如硬度。 特別是在汽車行業,鍍鎳部件必須滿足腐蝕行為的高要求。 單一鎳涂層不適


詳細介紹

Couloscope CMS2 STEP多層鎳層測厚儀

 

COULOSCOPE®CMS STEP除了與COULOSCOPE®CMS相對應的涂層厚度測量之外,COULOSCOPE®CMS STEP還提供了根據ASTM B764 - 94和DIN 50022進行STEP測試測量的功能.COULOSCOPE®CMS STEP非常適合測量 以簡單的標準符合方式,單個涂層厚度和多個鎳涂層的電位差 

COULOSCOPE® CMS STEP可以通過定位于電位-時間表中相關部分的雙指針來方便地測出鍍層厚度和電位差。這個圖表能夠外部保存或通過RS232轉換到PC電腦中。
COULOSCOPE CMS電解多鍍層庫侖法測厚儀可用于測量:
Au、Cd、Cr、Pd、Ni、Sn、Zn、Pb、Pb60Sn40、Brass 等金屬
基材可為 Cu and Cu-Alloy、Al and Al-Alloy、Zn and Zn-Alloy、Ni、Fe、非金屬材料等

 

在電鍍行業中,對多層鎳鍍層中各自層的同時的厚度和電極電位的測定變成了一個越來越重要的需求。的多鍍層組成為不含硫的半光亮鎳層和含硫的光亮鎳層。這兩個鎳層?reg;間足夠的電位差導致了光亮鎳層優先腐蝕于半光亮鎳層。這種次序也就延遲了整個鎳層的穿透速度,并且給了基材相對于單鍍層更好的防腐保護。

Couloscope CMS2 STEP多層鎳層測厚儀

應用:

多個鎳涂層的質量控制需要測量裝置,可以在涂層程序之后立即檢查厚度和電化學電位。 COULOSCOPE®CMS STEP測量系統由于其簡單的操作和參考電極的簡單操作,適用于電鍍廠惡劣環境中的應用,為此已開發出來。 電解鍍鎳用于裝飾性防腐蝕和改善機械表面性能,例如硬度。 特別是在汽車行業,鍍鎳部件必須滿足腐蝕行為的高要求。 單一鎳涂層不適用于此目的。 因此,正在開發非常復雜的涂層系統,其由兩個,三個或甚至四個不同的鎳涂層以及鉻或銅的附加涂層組成。

 

COULOSCOPE CMS基本配置
儀器:            Couloscope CMS
測量臺:          V24、V26、V18 等
電解液:          F1 ~ F22
COULOSCOPE CMS特征:
標準:DIN EN ISO 2177 ; ASTM B504
大屏幕點陣液晶顯示屏,可顯示文字與圖形:126 * 70 mm   
可設置和儲存:50個應用程式、600個數據組;3 000個數據
統計:平均值、zui大值、zui小值、標準偏差、測量次數、Cp、Cpk 和直方圖
使用多層菜單和軟鍵,使操作更方便
RS232 接口可通過電纜和傳輸軟件將數據傳到 PC
模擬輸出: 0 ~ -18V
輸入阻抗: > 2 KΩ
工作溫度: 10 ℃ ~ 40 ℃
儀器重量: 6 kg 
電源: AC 220 V ,50-60 Hz;zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸: 350W * 140H * 200D  mm
COULOSCOPE CMS STEP 雙層鎳鍍層測量版本
Couloscope CMS2 STEP 電解測厚儀
4種不同類型的測量臺適合于測量各種種類的被測物體。

 

篤摯儀器(上海)有限公司的產品和系統方案廣泛應用于大中型國有企業、汽車制造業、精密機械、模具加工、電子電力、鑄造冶金、航空航天、工程建筑、大專院校等研究實驗室和生產線、質量控制和教育事業,用于評價材料、部件及結構的幾何特征和理化性能,推動著精良制造技術的精益求精。

DOOZ INSTRUMENT (SHANGHAI) CO., LTD.is an instruments and equipment supplier and service provider specialized in mechanical measurement machine, materials chemical composition, physical performance testing and analysis. 

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