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科特萊思科熱阻蒸發鍍膜系統-Nano-36
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更新時間:2025-04-21 08:57:41

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科特萊思科熱阻蒸發鍍膜系統-Nano-36
科特萊思科熱阻蒸發鍍膜系統Nano36擁有LOAD LOCK預真空進樣室(可選)、前開門蒸發腔體、冷凝泵和干泵、多個熱阻蒸發源或OLED低溫蒸發源。

科特萊思科熱阻蒸發鍍膜系統-Nano-36

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在高真空下,電子槍燈絲加熱后發射熱電子,被加速陽極加速,獲得很大的動能轟擊到的蒸發材料上,把動能轉化成熱使蒸發材料加熱氣化,而實現蒸發鍍膜。電子束蒸發源由發射電子的熱陰極、電子加速極和作為陽極的鍍膜材料組成。電子束蒸發源的能量可高度集中,使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發。通過調節電子束的功率,可以方便的控制鍍膜材料的蒸發速率,特別是有利于高熔點以及高純金屬和化合物材料。可在高真空下蒸發不同厚度的各種金屬與氧化物薄膜,廣泛應用于物理,生物,化學,材料,電子等領域。

 

科特萊思科熱阻蒸發鍍膜系統-Nano-36

在高真空下,電子槍燈絲加熱后發射熱電子,被加速陽極加速,獲得很大的動能轟擊到的蒸發材料上,把動能轉化成熱使蒸發材料加熱氣化,而實現蒸發鍍膜。電子束蒸發源由發射電子的熱陰極、電子加速極和作為陽極的鍍膜材料組成。電子束蒸發源的能量可高度集中,使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發。通過調節電子束的功率,可以方便的控制鍍膜材料的蒸發速率,特別是有利于高熔點以及高純金屬和化合物材料。可在高真空下蒸發不同厚度的各種金屬與氧化物薄膜,廣泛應用于物理,生物,化學,材料以及電子等領域。

 

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