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北京志鴻恒拓科技有限公司

KIMBALL PHYSICS EGH-6210 激光設備技術參數

時間:2024-10-24閱讀:795

可聚焦高能電子束,光斑尺寸小至50μm

1keV至60keV

應用:

普通真空物理學
輻射研究
地面轟炸
半導體研究
生物樣本輻射
X射線生成
等離子體激發
熒光研究
表面物理研究
功能/選項:

小斑點尺寸低至50μm
中等電流束至5mA
高電流束至10mA
靜磁聚焦
靜磁束整形(可選)
靜磁偏轉
脈沖能力
操作過程中的內部對齊
差動泵
能量范圍:1keV至60keV
束流:10µA至5mA
光斑尺寸:50µm至10 mm
安裝:2.75英寸(2?)CF

Kimball Physics EGH-6210電子槍及其配套的EGPS-6210電源是一個完整的子系統,可以連接到用戶的真空系統并打開。它可以在非常廣泛的能量、電流和功率范圍內輸送電子。EGH-6210可用于空間材料測試、輻射研究、半導體研究、x射線產生和等離子體激發。

該槍使用單晶六硼化鑭(LaB6)陰極產生高能、可聚焦、小點電子束。束能量和束電流都可以在寬范圍內獨立調節;能量從1keV到60keV,電流從10μA到5mA。電子束可以通過控制柵極的輸入信號進行脈沖。
槍的可調光學元件可以適應不同的發散和一系列的工作距離,適用于各種應用。磁聚焦透鏡的光斑尺寸可以從10毫米到50微米不等。磁性定心和可選的整形線圈提供了額外的束控制,允許用戶偏轉和整形電子束。整形通常會產生橢圓光束,其兩個軸都可以獨立壓縮或延伸。靜磁聚焦透鏡和偏轉整形四極桿都能產生低像差的結果。此外,陰極到陽極的間距可以在內部調節,以改變導電性。

該 調節的陰極饋通組件,允許點火單元相對于陽極和柱進行機械對準。這種對準可以在槍打開光束的情況下實時完成。


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