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離子去膠機
閱讀:255 發布時間:2019-9-2提 供 商 | 北京同德創業科技有限公司 | 資料大小 | 44.5KB |
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資料圖片 | 下載次數 | 30次 | |
資料類型 | JPG 圖片 | 瀏覽次數 | 255次 |
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離子去膠機 型號:PR-3
通過等離子體方法,對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設備為單室真空系統,主要由真空系統、氣路系統、電氣系統、射頻電源系統、控制系統、冷卻系統、報警系統等部分組成。
射頻電源采用RF500W電源控制。
氣路系統采用兩臺浮子流量計控制氣體進氣。
腔室結構:臥式、純石英
真空室規格:F210´300mm
限真空:1Pa(環境濕度≤55%)
真空系統:機械泵
大裝片直徑: F4英寸
大裝片容量:4英寸 25片/爐
去膠速率: ~500A/min
去膠不均勻性:≤±5% (φ4吋范圍內)
操作方式:手動方式
用戶可選配全自動控制方式