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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>物理氣相沉積設備>NANO 36™ 熱蒸發薄膜沉積系統

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NANO 36™ 熱蒸發薄膜沉積系統

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

NANO 36™
經濟實惠的緊湊型濺射或熱蒸發薄膜沉積系統

Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 是我們優化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積,提供了實惠的價格點,同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質量。

NANO 36 與以下沉積技術兼容:

  • 熱蒸發(最多四個 2 英寸船組件)。

  • Torus® 磁控濺射源(最多三個 2“ 或 3” 源)。

  • 1cc 或 10cc LTE 有機沉積源(最多四個)。

  • 兩個熱源和兩個 LTE 源的組合。

  • 可根據要求提供定制配置。

KJLC的軟件允許用戶友好的配方創建,以及一個可靠、不間斷的處理模塊,無論計算機用戶界面的狀態如何,都可以完成過程。有關此直觀、且可靠的軟件包的更多信息,請參閱“軟件”選項卡。




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