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北京位錯層錯劃痕測定儀硅片缺陷觀測儀（HS-WDI），于對硅片的缺陷進行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。
實時對圖像進行分析、測量和統計，提高傳統光學儀器的使用內涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設備，能更好的觀測和保存研究結果；
產品分類品牌分類
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產品簡介
詳細介紹
硅片缺陷觀測儀 位錯層錯劃痕測定儀
型號：GR/HS-WDI
北京位錯層錯劃痕測定儀硅片缺陷觀測儀(HS-WDI)，于對硅片的缺陷進行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。
實時對圖像進行分析、測量和統計，提高傳統光學儀器的使用內涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設備，能更好的觀測和保存研究結果；產品特點
■北京位錯層錯劃痕測定儀適用于對硅片的缺陷觀察效果，非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等；
■使硅片缺陷觀察工作簡單化，準確化，同時極大程度降低此項工作強度；
■實時對圖像進行分析、測量和統計，提高傳統光學儀器的使用內涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設備，能更好的觀測和保存研究結果；
■使用 1/2"CMOS 感光芯片，具有體積小，技術*，像素較高， 成像清晰 、線條細膩、色彩豐富；
■傳輸接口為 USB2.0 高速接口， 軟件模塊化設計 ；
■有效分辨率為 200 萬像素；
■所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統。
推薦工作條件
■溫度：23±2℃
■濕度：60%~70%
■無強磁場、不與高頻設備鄰近硅片缺陷觀測儀(HS-WDI)，于對硅片的缺陷進行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。
實時對圖像進行分析、測量和統計，提高傳統光學儀器的使用內涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設備，能更好的觀測和保存研究結果；產品特點
■適用于對硅片的缺陷觀察效果，非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等；
■使硅片缺陷觀察工作簡單化，準確化，同時極大程度降低此項工作強度；
■實時對圖像進行分析、測量和統計，提高傳統光學儀器的使用內涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設備，能更好的觀測和保存研究結果；
■使用 1/2"CMOS 感光芯片，具有體積小，技術*，像素較高， 成像清晰 、線條細膩、色彩豐富；
■傳輸接口為 USB2.0 高速接口， 軟件模塊化設計 ；
■有效分辨率為 200 萬像素；
■所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統。
推薦工作條件
■溫度：23±2℃
■濕度：60%~70%
■無強磁場、不與高頻設備鄰近硅片缺陷觀測儀(HS-WDI)，于對硅片的缺陷進行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。
實時對圖像進行分析、測量和統計，提高傳統光學儀器的使用內涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設備，能更好的觀測和保存研究結果；產品特點
■適用于對硅片的缺陷觀察效果，非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等；
■使硅片缺陷觀察工作簡單化，準確化，同時極大程度降低此項工作強度；
■實時對圖像進行分析、測量和統計，提高傳統光學儀器的使用內涵。配合投影儀和計算機等顯示、存儲設備，能更好的觀測和保存研究結果；
■使用 1/2"CMOS 感光芯片，具有體積小，技術*，像素較高， 成像清晰 、線條細膩、色彩豐富；
■傳輸接口為 USB2.0 高速接口， 軟件模塊化設計 ；
■有效分辨率為 200 萬像素；
■所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統。
推薦工作條件
■溫度：23±2℃
■濕度：60%~70%
■無強磁場、不與高頻設備鄰近