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60K 桌面型
60K 寬噴型
高覆蓋率超聲波光刻膠噴涂系統簡介：
在傳統的高速旋涂無法提供均勻覆蓋深孔形貌或高縱橫比的應用中，高覆蓋率超聲波光刻膠噴涂系統用均勻的光刻膠薄膜涂覆半導體成為了完整的解決方案。與傳統的旋涂相比，采用超聲波噴涂的光致抗蝕劑涂層在沉積更均勻的涂層方面具有優勢，特別是在高深寬比溝槽和v形槽結構中沿側壁頂部沉積時，離心旋涂無法沉積均勻的涂層沿著側壁形成膜，而沒有過多的光致抗蝕劑沉積在腔體的底部。事實證明，使用超聲技術進行直接噴涂是將光刻膠沉積到3D微結構上的可靠且有效的方法，從而減少了因金屬過度暴露于抗蝕劑涂層而導致的設備故障。
噴嘴：
噴嘴由高強度鈦合金和其他專有金屬制造，使它們特別耐化學腐蝕，并提供*的聲學性能。我們提供類型有：長嘴型--寬噴型--探入型--散射型--聚攏型--線噴型等六種超聲波霧化噴嘴。
優勢：
1、在MEA制造中證明了鉑的利用率高達90%。
2、高孔涂層非常耐用，防止催化劑層開裂或剝落。
3、可減少50%的材料消耗，減少過噴，節省昂貴的催化劑墨水。
4、清潔， 的噴霧模式，易于成型各種圖案。
5、高度可控的噴霧，產生可靠一致的結果。
6、不堵塞的霧化噴霧，不會偏離軌跡。
7、超低流量能力，可間歇或連續噴涂。
8、超聲振動不斷地打破團聚的顆粒，使其均勻分散，使鉑的利用率 化。
9、能夠用非常小的液體樣品(只需10ml的催化劑溶液涂覆多個PEM)。適用于研發階段。
10、對PEM有及好的粘附性，于高振動燃料電池應用，如汽車零部件。
服務：
我們提供用于霧化噴涂的各種超聲波處理器。我們也隨時為您提供滿意的加工定制服務并為您提出 解決方案。
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