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紅外金平面反射爐該系列應用廣泛，從碳納米管生產系統到產線生系統；平面金反射爐可用于2~12英寸圓晶的退火爐和產品的烘干爐；
RTP快速退火爐已經成為半導體、鐵電體以及鍍膜行業的重要退火技術。但是目前，只有大型的、昂貴的生產設備才能完成快速熱處理，這大大降低了研發工作的效率（尤其是小的...
高溫快速熱退火爐HT-RTA59HD高溫快速退火系統可以在SiC等高熔點的材料快速加熱到1800℃。
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