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化學發光成像系統的特別之處在哪里

閱讀:828        發布時間:2024/9/24
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化學發光成像系統應用:可應用于:ECL、ECL plus、SuperSignal、CSPD、CDP Star等化學發光底物染色的Western Blot樣品拍攝和分析。
制冷溫度:-60℃,軟件一鍵成像,拍攝方便簡單。
可選配多位濾光輪,RGB光源及濾鏡相配,適應多種熒光染料。
人機工程學設計,操作方便實用。
百萬像素進口高靈敏度,冷CCD、進口光學定焦鏡頭,F0.8,確保微弱信號的捕獲。
全自動電腦控制,集成模塊化處理器,耐腐蝕性金屬暗箱,防靜電,抗干擾。
雙側亮度LED集成光源,低功耗,長壽命。
高性能扣噪音暗背景成像板:192*246面積。
軟件功能:
1.具有預覽功能,可以提前進行預曝光,如果樣品強度很高,可以直接拍攝出圖片;
2.自動曝光拍攝,無需再調整曝光時間等其他參數,只需點擊拍攝就可得到圖片,方便、快捷;
3.軟件帶圖像自動優化功能,自動調整直方圖;
4.在拍攝界面也可以手動調整圖片灰度,并且帶保存功能;
5.預定義參數設置可以提前設定實驗執行者的儲存路徑,可設定黑白反轉、水平反轉、垂直反轉;
6.可設定CCD的溫度;
7.帶圖像管理功能,可實現黑白反轉、mark疊加功能,可以進行色階手動調整,并可以保存修改后的圖片。

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