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納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe>>技術文章>>微納米激光直寫系統技術由來介紹

微納米激光直寫系統技術由來介紹

閱讀:580        發布時間:2021/4/2
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   由于樹脂材料的黏度、表面張力等因素的影響,小涂層厚等因素的限制;以及微立體光刻固化是基于單光子吸收聚合固化的本質特性,微立體光刻目前能達到的分辨率是在微尺度范圍,如果進一步提高微立體光刻的分辨率,實現亞微尺度和納尺度結構制造將面臨巨大的挑戰。
  基于雙光子聚合激光3D直寫提供了一種有效的解決方案,而且是目前實現納尺度3D打印效的一種技術。
  不同于傳統的微立體光刻(是一種單光子微立體光刻工藝),基于雙光子聚合激光直寫3D打印是基于雙光子聚合原理。
  德國NanoScribe公司等研究相繼開發了基于雙光子聚合激光直寫微納尺度3D打印設備和裝置,基于雙光子聚合激光直寫3D打印目前已經顯示出巨大的潛能和工業化應用前景。
  Nanoscribe雙光子三維微納米激光直寫系統PhotonicProfessionalGT2系統為2014年該公司在美國舊金山舉行的的西部光電展上贏得PrismAward(俗稱為光學領域奧斯卡獎的棱鏡獎)的PhotonicProfessionalGT(PPGT)的升級版本。基于雙光子聚合技術的PhotonicProfessionalGT2系統是目前高精度微納3D打印系統。
  德國Nanoscribe在2017年底在上海成立了全資中國子公司-納糯三維科技(上海)有限公司,加強了德國在中國的銷售推廣。在鞏固并擴大了現有業務關系的同時拓展了售后服務范圍,更好的為亞太地區客戶提供專業技術支持。上海分公司還設有實驗室可供參觀。

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