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熱蒸發鍍膜設備是專業在塑料表面進行蒸發鍍鋁絲、鉻絲、銅絲的專用設備，利用電阻加熱，將金屬絲熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達到...

真空鍍膜設備通常由多個關鍵部分組成，每個部分都有其特定的功能，協同工作以實現高效、均勻的薄膜沉積。

多功能鍍膜設備是一款集直流磁控濺射鍍膜技術、電阻蒸發鍍膜技術、CVD鍍膜技術及中頻離子清洗系統相結合的復合型設備，適應客戶復雜的產品工藝切換；真空室內可一次性完...

HP100標準型烤膠機是一款高精度輕便的桌面型帶電動頂針的接近模式烤膠設備。*進的控制系統允許控溫范圍在室溫－300℃之間，控溫精度達到0.5℃。

UC100紫外臭氧清洗機是一款程控型紫外光清洗機，擁有獨立的控制系統，使用 時符合人體工程學。 UC100紫外光清洗機是市場上使用集成控制系統的桌面型紫外光清洗...

科研鍍膜機主要用于科研、教學、及化工涂料生產等行業的表面表面鍍膜。設備特點：小型試驗真空鍍膜機具有外形美觀、結構緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點。

涂膜機用于制備均一的涂膜，因為影響涂膜的因素是剪切速率和加在施工工具上的重量。該設備使用一個控制的線棒或涂膜器，以選定的速度來回移動。由于試紙平整地被吸附在平面...

鈣鈦礦鍍膜設備主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。

實驗室鍍膜機具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩定、易維護的特點，尤其適用于實驗室高校使用，客戶可根據自身不同需求選配。

小型鍍膜設備具有外形美觀、結構緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點。可實現蒸發鍍膜、磁控濺射鍍膜、電弧鍍膜等工藝?？蛇M行手動、半自動、全自動控制.有多種...

磁控濺射鍍膜設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。根據不同的產品需求，可選配加熱系統、偏壓系統、離化...

蒸發鍍膜設備主要用于產業化研究。它能夠蒸鍍有機、無機或金屬材料，為各種薄膜材料的研究和應用提供了強有力的支持。對于有機材料，蒸發鍍膜設備能夠提供高質量的薄膜，具...

蒸發鍍膜機可用于加工ABS、PS、PP、PC、PVC、TPU、尼龍、金屬、玻璃、陶瓷等材質產品；適用于蒸發鍍鋁、鉻、銦、錫、銦錫合金、氧化硅、硫化鋅等材料

小型真空鍍膜機采用大抽速分子泵準無油高真空系統，機架電控一體化設計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機工程學的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發狀態的玻璃真空室結構相得益...

實驗室真空鍍膜設備采用封閉的系統框架，外觀漂亮，使用安全。4～12組蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發。

HP100-PA 烤膠機是一款高性能烤膠設備，帶有真空吸附、頂針定位烤膠、線性升溫等功能，可以存貯 100 組程序，每組程序可設多步。所有運行參數如加熱時間、頂...

小型真空等離子清洗機是一款專門針對科研院所研制的小批量樣品表面處理設備，利用真空環境產生等離子體去處理樣品的表面，達到常規清洗方法無法達到的效果。具有設備小巧，...

小型離子濺射儀(Small size ion sputtering instrument)是一種物理氣相沉積技術，可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶...

全自動離子濺射儀是一種功能強大的電子設備，經常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面，然后通過檢測生成的離子進行分析。

電鏡制樣超薄切片機新設計，切片運動采用直流無刷電機，提高運動穩定性；人性化設計，配載退刀流程，減少樣品損壞度；數字化操作界面，一鍵回程按鈕，操作便捷；設備適配多...