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勻膠顯影機
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貨物所在地:湖北武漢市

更新時間:2025-07-15 21:00:22

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勻膠顯影機 適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝,制版的表面顯影。一般顯影機由動力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。

勻膠顯影機

一、產品概述:
   650型顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝,制版的表面顯影。一般顯影機由動力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。

二、顯影機工作原理:
顯影系統具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進行,如沖洗(通常是去離子水或溶劑),然后干燥(通常是氮氣)等后的處理步驟。采用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在*干燥的環境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態的位置還可以蓋內調節。蝕刻/顯影/清洗全套系統還有可選擇的動態線性或徑向滴膠的特性。

勻膠顯影機

三、勻膠機主要性能指標:
1、腔體尺寸:9.5英寸 (241 毫米);
2、Wafer&芯片:直徑6英寸(150毫米)的晶圓片或者5x5英寸(125毫米)的方片;
3、非真空托盤:聚丙烯材質非真空托盤,可承載2、3英寸及150毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能;
3、轉動速度:0-12,000rpm,
4、旋涂加速度:0-30000rpm/sec(空載);
5、馬達旋涂轉速:穩定性能誤差 < ±1%;
6、工藝時間設定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度;
7、高精度數碼控制器:PLC控制,設置點精度小于0.006%;
8、程序控制:可存儲20個程序段,每個程序段可以設置51步不同的速度狀態;
9、分辨率:分辨率小于0.5轉/分,可重復性小于±0.5轉/分,美國國家標準技術研究院(NIST)認證過的,并且無需再校準!]
10、腔體開關蓋板:透明ECTFE材質圓頂蓋板,便于實時進行可視化操作;
11、腔體材質說明:用聚丙烯材質制成的帶有聯動傳感觸點的合瓣式艙體;
12、配套分析軟件:SPIN3000操作分析軟件;

 

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