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正電子壽命譜分析設備PSA1技術分析
閱讀：1139 發布時間：2022-10-31正電子壽命譜分析設備PSA1技術分析
它是一種可以使用正電子評估亞納米尺寸（原子級）的微缺陷和空隙的方法。
正電子壽命測量是一種能夠使用正電子評估亞納米尺寸（原子級）微缺陷和空隙的技術。
本設備的應用示例
噴丸質量檢查
金屬疲勞損傷評估
用途
鋼、鋁、鈦等各種金屬
無定形材料，例如玻璃和聚合物
測量深度距表面約 50 μm（鋼材）
正電子壽命法原理
圖1是正電子進入金屬材料并湮滅的示意圖。
正電子壽命測量方法是一種精確測量正電子產生過程中發射的γ射線與電子對湮滅過程中產生的γ射線之間的時間差（正電子壽命）的技術。
當材料中存在更多空位并且位錯密度更高時，正電子壽命更長。規格
正電子源 Na-22 (~1MBq) 計數率 約 100 cps 測量范圍 40 ns（用于金屬、半導體和聚合物） 附屬設備 ?HDO4024（Teledyne LeCroy DSO）、
（HDO4024 尺寸 W400 × L132 × H292 [mm]）
?特殊程序
?筆記本電腦等