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一、概述
ME-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，配置全自動Mapping測量模塊，通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現薄膜全基片膜厚以及光學參數自定義繪制化測量表征和分析。
■ 全基片橢偏繪制化測量解決方案；
■ 支持產品設計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量；
■ 配置Mapping模塊，全基片自定義多點定位測量能力；
■ 豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力。
二、產品特點
■ 采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；
■ 高精度旋轉補償器調制、PCRSA配置，實現Psi/Delta光譜數據高速采集；
■ 具備全基片自定義多點自動定位測量能力，提供全面膜厚檢測分析報告；
■ 數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料。
三、產品應用
ME-Mapping廣泛應用OLED，LED，光伏，集成電路等工業應用中,實現大尺寸全基片膜厚、光學常數以及膜厚分布快速測量與表征。
可選配件
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| 真空泵 | 透射吸附組件 |
技術參數
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