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產品簡介
詳細介紹
Hitachi日立高新熒光分布成像系統
上市時間：2019年10月
創新點主要有兩個方面：硬件方面：將熒光分光度計與CMOS相機結合在一起，能夠同時觀察樣品光譜和圖像的技術。軟件方面：運用了智能光譜算法，可以獲取樣品任意區域的光譜信息。常規的熒光分光光度計測得的是樣品表面信息平均化的信號，得到的是一條熒光光譜，這個新的系統能夠對樣品表面進行分區，從而獲得不同區域的光譜信號，使得光譜信息細致化了。
Hitachi日立高新熒光分布成像系統產品簡介
1. 熒光分布成像系統（EEM View）簡介
作為熒光分光光度計的配件系統，這是將相機與熒光分光光度計的完美結合，融合了智能算法的*技術。能夠同時獲取樣品圖像和光譜信息。
新型熒光分布成像系統可安裝到F-7100熒光分光光度計的樣品倉內。入射 光經過積分球的漫反射后均勻照射到樣品，利用F-7100標配的熒光檢測器可以獲得樣品熒光光譜，結合積分球下方的CMOS相機可獲得樣品圖像，并利用*的AI光譜圖像處理算法，可以同時得到反射和熒光圖像。
2. 熒光分布成像系統特點：
①測定樣品的光譜數據（反射光、熒光特性）
②在不同光源條件下（白光和單色光）拍攝圖像（區域：Φ20mm、空間分辨率：0.1 mm左右、波長范圍：360-700nm）
③利用自主研發的分析系統1)，分開顯示熒光圖像和反射圖像
④根據圖像可獲得不同區域的光譜信息（熒光光譜、反射光譜）
國立信息學研究所 佐藤IMARI 教授?鄭銀強副教授共同研究成果
熒光分布成像系統軟件分析（EEM View Analysis）界面(樣品：LED電路板)
樣品安裝簡單，適用于各種樣品測試
樣品只需擺放到積分球上，安裝十分簡單！
豐富的樣品支架
支持準確測量的校正工具
總結
以上為熒光分布成像系統的特點和功能結束，這是一種全新的技術，將它配置到熒光分光光度計中，改變了常規熒光光度計只能獲得樣品表面區域平均化信息的現狀，可以查看樣品圖像任意區域的光譜信息，十分適合涂料、材料、油墨、LED、化工等領域。
注：該儀器未取得中華人民共和國醫療器械注冊證，不可用于臨床診斷或治療等相關用途