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產(chǎn)品簡介
這是一種用于測量光譜絕對反射率，L*a*b*成色值和生長速率的非接觸式測量設備。kSA SpectR 光譜反射率測試設備具有多種在線監(jiān)控和過程控制的應用功能，包括垂直腔表面發(fā)射激光器（VCSEL），分布式布拉格反射器（DBR）和其他一些復雜的設備結(jié)構(gòu)。該設備主要應用于監(jiān)控測量sputtering，MBE和MOCVD等薄膜生產(chǎn)研究。
詳細介紹
kSA SpectR 光譜反射率測試設備是一種用于測量光譜絕對反射率，L*a*b*成色值和生長速率的非接觸式測量設備。該工具具有多種在線監(jiān)控和過程控制的應用功能，包括垂直腔表面發(fā)射激光器（VCSEL），分布式布拉格反射器（DBR）和其他一些復雜的設備結(jié)構(gòu)。該設備主要應用于監(jiān)控測量sputtering，MBE和MOCVD等薄膜生產(chǎn)研究。
kSA SpectR 光譜反射率測試設備的光學鏡組被配置為鏡面反射的幾何形狀。在這種測量原理中，薄膜每生長出一個新layer，程序就會自動擬合，將已有的所有基底和薄膜layer視為一個新的虛擬基底。kSA SpectR可以同時以多個波長進行測量，每個波長都具有潛在的特性。此設備可在選定的波長范圍內(nèi)測量自定義光譜特征，如反射率的最小值、最大值、拐點或基線散射水平。
測量實例
850 nm DBR的光譜反射率
在GaAs襯底上生長250nm的AlAs和500nm的GaAs時，532和940nm下的反射率及其擬合曲線
AlAs生長期間的生長速率，光學常數(shù)和反射率實時擬合曲線
AlAs和GaAs生長的未經(jīng)校正的高溫計測量結(jié)果和經(jīng)過校正的ECP溫度
GaAs薄膜生長過程中單個反射率振蕩周期圖
