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　　X射線輻照儀對(duì)細(xì)胞或小動(dòng)物(清醒狀態(tài)或麻醉狀態(tài))、進(jìn)行照射，從而可用于干細(xì)胞(骨髓移植及分化，飼養(yǎng)層細(xì)胞制備、細(xì)胞誘變等)DNA損傷、Cell Cycle、細(xì)胞培養(yǎng)、血制品照射、腫瘤、信號(hào)轉(zhuǎn)導(dǎo)、兔疫、 基因治療、放射生物學(xué)、藥物研發(fā)等多種生物學(xué)輻照研究。
 

　　X射線輻照儀在放射治療應(yīng)用中，通常利用的X射線能量范圍為90-300kv。50-1 50kv被稱為淺表X射線，超過(guò)90%的入射劑量造成的損傷集中在表面以下5mm深度內(nèi)，通常用于治療皮下腫瘤;而200-500kV被稱為中電壓X射線，超過(guò)90%的劑量集中在表面以下50px的深度內(nèi)，通常用于深部腫瘤的治療。