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美國 Sutter 公司的 BV-10-B 磨超微電極裝置設計簡單易用，在整個操作過程中其*的研磨板驅動系統可以迅速完成玻璃電極的研磨，能精密打磨斜面及直徑在 0.1 和 50µm 之間的玻璃電極。磨板旋轉平穩，基座配有磁力耦合， 旋轉速度約 60 rpm。且通過磨超微電極裝置研磨的斜面玻璃電極，一方面降低了玻璃電極對細胞的穿透阻力，幾乎能直接進入，另一方也能穿透非常小或困難的細胞。顯微鏡下用注射針頭也受益于斜面，能以最小的損傷進入細胞。
《主要應用》美國 Sutter 公司的 BV-10-B 磨超微電極裝置適用于電生理實驗用玻璃電極、細胞內外記錄電極、微注射等各種玻璃微電極。
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無振動，斜面表面磁耦合
² 磨盤表面為半波長（250nm）光學平面
² 采用好的磨料
² 同步時鐘電動機確保穩定呢的轉速
² 7 磅重的底座增加了額外的振動阻尼
² 配有 LED 燈
² 配有能控制打磨的精度和角度的微操作器
1、 打磨范圍：0.1-50µm
2、 打磨的差異：小于 1.0µm
3、 打磨速度：60 RPM
4、 打磨角度：5-90 度可調
5、 微操作器：粗調 1.9mm，微調0.01mm
6、 電極電阻測量儀測量范圍：0-10，
0-100，0-500Ω。
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