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GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設備是一種步進式紫外納米壓印設備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優于20納米的三維結構，還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進式壓印拼接成大面積壓印母模具。
GL SR300是一種步進式紫外納米壓印設備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優于20納米的三維結構，還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進式壓印拼接成大面積壓印母模具。
通常納米壓印模具的加工需要利用的電子束或者激光直寫技術、刻蝕技術等，加工大面積納米壓印母模具成本極其高昂，技術可行性很低。通過GL SR300步進式納米壓印技術可以將小面積納米壓印模具拼接成大面積納米壓印母模具，然后從大面積母模具可以復制大面積工作模具，用來進行大幅面壓印。這種方式可以大大降低納米壓印模具成本，使得低成本納米壓印生產成為可能。
●300mm步進式紫外納米壓印
●支持從微透鏡復制到整面微透鏡陣列模具，用做晶圓級光學加工母模具
●支持從小面積高精度納米結構模具復制到大幅面模具，用作CLIV全副面壓印母模具
●支持各種模具材質與形狀
●支持旋涂壓印膠基底步進式壓印復制，適用于高精度納米結構模具拼接
●設備自帶點膠裝置，支持點膠步進式壓印復制，適用于微透鏡陣列等晶圓級光學結構模具拼接
●標配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>200mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料
●標配設備內部潔凈環境與除靜電裝置
●高精度閉環控制位移平臺，定位精度優于1μm
| 兼容基底尺寸 | <300mm方形 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
| 納米壓印技術 | 步進式納米壓印 |
| 壓印精度 | 優于20納米* |
| 結構深寬比 | 優于10比1* |
| 殘余層控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光強>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配） |
| 設備內部環境控制 | 標配，外部環境Class 100，內部環境可達Class 10 |
| 自動壓印 | 支持 |
| 自動脫模 | 支持 |
自動工作模具復制 | 支持 |
自動點膠 | 選配 |
單次壓印面積 | 50x50mm |
定位精度 | 優于1μm |
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