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GL Plasma等離子體清洗設備
  • GL Plasma等離子體清洗設備
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貨物所在地:山東青島市

更新時間:2025-04-17 21:00:08

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? GL Plasma等離子體清洗設備數適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)。

 GL Plasma等離子體清洗設備主要應用于活化,提升附著力和清洗等工藝。


 GL Plasma等離子體清洗設備相關參數

●適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)

●適用于清洗納米壓印基底表面

●適用于納米壓印基底表面增粘、激活、改性

●適用于增加工作模具基材與模具復制材料粘附性


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