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BMF nanoArch® S130

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更新時間:2021-03-01 21:17:40瀏覽次數(shù):1104

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應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
BMF nanoArch® S130可以實現(xiàn)實現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù)。

詳細介紹

BMF nanoArch® S130 系統(tǒng)簡介:

nanoArch S130是可以實現(xiàn)實現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢,被認為是目前有前景的微納加工技術(shù)之一。

科研級3D打印系統(tǒng)

nanoArch® S130是科研級3D打印系統(tǒng),擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

BMF nanoArch® S130 系統(tǒng)性能:

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏樹脂

光學精度

2μm

XY打印精度

2~10μm

打印層厚

5~20μm

打印樣品尺寸

Mode Single:3.84*2.16mm*10mm
Mode stitch:38.4mm*21.6mm*10mm
Mode Array:50mm*50mm*10mm

打印文件格式

STL

系統(tǒng)外形尺寸

1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm

重量

650kg

電氣要求

200~240V AC,50/60HZ,3KW

其他要求

部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊

設(shè)備功率

3000W

打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA等。

個性化

高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。

系統(tǒng)特點

高精度
(XY打印精度高達2μm)
低層厚
(5μm~20μm的打印層厚效果對比)
微尺度大幅面的打印能力
光學監(jiān)控系統(tǒng),自動對焦功能
配置氣浮平臺,提高打印質(zhì)量
優(yōu)良的光源穩(wěn)定性
配備完善的樣品后處理組件 包括抽真空及紫外后固化

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