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產品簡介
BMF nanoArch® S140是可以實現實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。
詳細介紹
BMF nanoArch® S140 系統簡介
nanoArch S140是可以實現實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前有前景的微納加工技術之一。
科研級3D打印系統
nanoArch® S140是工業級3D打印系統，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，可以兼顧微尺度和宏觀樣件的打印，從而實現超高精度大幅面的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
BMF nanoArch® S140 系統性能：
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 10μm |
| XY打印精度 10~40μm | 打印層厚 10~40μm | 打印樣品尺寸 Mode Single：19.2mm*10.8mm*45mm |
| 樣品高度 10mm in typical； | 打印速度 288~1152mm3/h | 打印文件格式 STL |
| 設備功率 3000W | 系統外形尺寸 主機：650(L)*650(W)*750mm(H) | 重量 300kg |
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
個性化
405nm固化波段的光敏樹脂材料 ，支持透明樹脂，柔性樹脂，硬性樹脂，納米顆粒摻雜復合樹脂，4D打印樹脂，生物醫療樹脂等，需適配不同的工藝和模型，不保證打印性能
系統特點
高精度
（XY打印精度高達10μm）
（XY打印精度高達10μm）
低層厚
（10μm~40μm的打印層厚）
（10μm~40μm的打印層厚）
微尺度大幅面的打印能力
光學監控系統，自動對焦功能
優良的光源穩定性
配備完善的樣品后處理組件 包括抽真空及紫外后固化
應用案例
