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產品簡介
DS-2000/14G型光刻機該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源，用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模板，采用積木 錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明
詳細介紹
產品名稱：DS-2000/14G型光刻機
主要技術指標：
單次曝光面積：1.4mm×1mm
大曝光基片：100mm ×100mm
對準精度：±0.8μm（半自動對準）
大膠厚：300μm（SU8膠）
自動逐場對焦；
分辨力：1μm；
X、Y、Z、θ四自由度電動位移臺
X、Y平移重復定位精度：0.65μm（3σ）
Z向運動精度：1μm
DS-2000/14G型光刻機技術特點：
該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源，用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模板，采用積木 錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明，并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準系統（可同時使用），拼接獲得大面積圖形，曝光設定采用微機控制，菜單界面友好，操作簡便。