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含氫類金剛石薄膜(a-C:H)是一種非晶碳薄膜
【詳情描述】
含氫類金剛石薄膜（a-C:H，amorphous hydrogenated carbon）是一種非晶碳薄膜，其中還包含氫元素。這種薄膜通常由碳和氫的混合物組成，其碳部分呈非晶態結構，而氫的加入可以調節薄膜的性質。
硬度和潤滑性： 含氫類金剛石薄膜具有較高的硬度，使其在硬質涂層應用中具備耐磨性。同時，氫的存在也能提供一定的潤滑性，使其在一些要求減少摩擦和磨損的應用中有潛在用途。
透明性： 含氫類金剛石薄膜在可見光范圍內通常具有較好的透明性，因此可用于制備透明涂層等。
電學性能： 氫的引入可以影響薄膜的電學性能，使其在導電性和絕緣性之間取得平衡。這種特性對于一些電子器件的應用具有重要意義。
光學涂層： 由于其硬度和透明性，含氫類金剛石薄膜可提高光學器件的耐久性。
制備方法： 含氫類金剛石薄膜的制備方法主要包括化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）等技術，具體的方法會影響薄膜的結構和性能。
【基本信息】
中文名稱：含氫類金剛石薄膜
英文名稱：a-C:H
純度：99.9%
存儲：-20℃冷藏、密封、避光
保存時間：1年
用途：僅用于科研，不能用于人體
【定制產品】
TiAlN薄膜
CrAlN薄膜
TiAIN/CrAIN多層膜
Ti-Ag薄膜
Ti-Ag-N薄膜
稀土銪和鋱共摻雜的ZnO薄膜(ZnO: Eu,Tb薄膜)
立方氮化硼(C-BN) 薄膜
V摻雜ZnO薄膜（ZnO：V）
以上資料來自西安昊然生物小編JMY 2024.2.26.
以上文中提到的產品僅用于科研，不能用于人體及其他用途。
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