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GVC-2000-手套箱專用磁控濺射儀
  • GVC-2000-手套箱專用磁控濺射儀
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貨物所在地:北京北京市

更新時間:2025-06-18 15:46:09

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GVC-2000手套箱專用磁控濺射儀采用觸摸控制,外置泵組設計,采用平面磁控濺射靶設計,從而使試樣在熱效應最小的條件下得到有效的濺射效果,常用于鋰電池電極防氧化研究中。
  GVC-2000手套箱專用磁控濺射儀自動化程序控制,一鍵式操作,讓鍍膜更加高效。該設備采用觸摸控制,外置泵組設計,采用平面磁控濺射靶設計,從而使試樣在熱效應最小的條件下得到有效的濺射效果,常用于鋰電池電極防氧化研究中。
  一、技術參數
  1、工作原理:磁控濺射
  2、輸入電壓:AC220V±10%,50Hz
  3、最大功率(主機與機械泵):500W
  4、工作電壓:DC2400V
  5、存儲環境:溫度-10~60℃,濕度<80%
  6、工作環境:溫度 5~40℃,濕度<60%
  7、真空泵:兩級直聯旋片式真空泵 1L/s
  8、整機尺寸(長×寬×高):424×271×255(mm)
  9、重量(主機):11 kg
  10、真空腔:φ128×130mm
  11、樣品杯:φ90×1 / φ25×4 / φ15×6
  12、工作氣體:Air / Ar
  13、保護功能:過流、真空雙保護
  14、可選靶材:金、鉑、銀、銅、鋁、鉛等常用金屬
  二、手套箱專用磁控濺射儀(手套箱專用離子濺射儀)主要特點
  1、可用于純氬、純氮環境,使樣品免受氧氣、水蒸氣或其他污染;
  2、助力新型電池研究;
  3、提供全套解決方案及交鑰匙服務。

手套箱專用離子濺射儀

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