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紫外臭氧清洗工作原理：清洗設備的核心是低壓石英汞燈，產生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產生，有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發或...

這款蝕刻和清潔系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。

P200L半自動探針臺?200毫米半自動晶圓探針臺 。

真空快速退火爐AS-OneAS-One是一種通用的RTP系統，可用于開發快速熱退火和快速熱CVD工藝。可以搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。溫度1500 ℃，升...

品牌：恩科優（N&Q）型號：NXQ400-8產地：美國恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，N&Q4000系列光刻機是以半自動系統為主。該系統*的操作性...

品牌：恩科優（N&Q）型號：NXQ800-6產地：美國恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，N&Q8000系列光刻機是以自動系統為主。該系統*的操作性，...

Dymax 5000-EC 系列紫外光固化面光源適用于固化光強需求高、固化速度高的紫外光膠粘劑、涂層和油墨。

PicoMaster 200無掩模激光直寫光刻機●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業界的成套全息設計軟...

PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫設備，它具有每毫米超過1200條線的輸出能力，特別適合用戶在光敏層上自由地創造微結...

RIE反應離子刻蝕機NRE-3500（A）全自動RIE反應離子刻蝕機概述：獨立式RIE反應離子刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及1...

Plasma Cleaner等離子清洗機NPC-4000（M）等離子清洗機概述：NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶...

NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統概述：NANO-MASTER PECVD系統能夠沉積高質量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達12...

NTE-4000（M）熱蒸發系統概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計算機控制的臺式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備的...

NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統，用于的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷...

Nexis GC-2030氣相色譜儀配備了全新智能交互界面，僅需觸屏即可完成儀器操作并可以實時了解儀器運行狀態。創新ClickTek技術全面提升用戶分析體驗，使...

該臺式可見光分光光度計具有直觀的彩色觸摸屏操作界面，并可直接在屏幕上顯示哈希程序的操作提示。加上直觀的量程柱狀圖顯示，比色皿的自動識別和錯誤報警，以及新增的AQ...

全新一代Axia ChemiSEM掃描電鏡，采用*方法進行樣品成分信息的采集、處理和展示；依托*鏡筒技術，保持系統始終處于狀態，可聚焦樣品采集數據，隨時提供高質...

Agilent Intuvo 9000 氣相色譜系統*改變了用戶執行氣相色譜分析的方式，開辟了全面提高運行效率和業務成果的新途徑。Intuvo 秉承了安捷倫氣相...

940系列譜峰思維TM離子色譜儀的出現，標志著離子色譜新時代的到來。該系列離子色譜儀在保障非常好系統可靠性和非常簡便儀器可操作性的同時，還為客戶提供非常靈活的系...

Ellutia新型快速氣相色譜儀，采用的毛細管柱直接加熱技術，無需配備柱溫箱，即可實現色譜柱的快速加熱和冷卻效果。與傳統氣相色譜以分來計算運行時間不同，這是一種...