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加熱冷卻循環裝置-25℃～200℃ 寬工作溫度范圍，同時具備加熱制冷功能，主要應用于反應釜、反應器中制冷加熱

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應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱循環裝置-10℃ ～ 200℃

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應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環機實驗室使用-25℃～200℃

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷循環器-45℃ ～ 250℃工業生產使用

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫體機-SUNDI-420W-45℃～180℃