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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • CMP

    G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發(fā)，操作簡單，成本低。
    型號： GNP POLI-... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:21:54 對比

  • CMP

    GnP POLI-610專為藍寶石等復合晶圓的CMP工藝開發(fā)而設(shè)計。特別是該系統(tǒng)對于晶圓工藝開發(fā)具有較低的擁有成本，材料評估和生產(chǎn)前運行。
    型號： GNP POLI-... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:18:37 對比

  • CMP

    GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而開發(fā)，也為先進晶圓制造商和耗材供應(yīng)商設(shè)計的。GNP POLI-500廣泛用于耗材供應(yīng)商，襯...
    型號： GNP POLI系... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 12:01:43 對比

  • 全自動CMP晶圓清洗一體機

    韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。
    型號： GNP GPC-3... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/6 11:50:12 對比

  • CMP拋光機

    POLI-762是小型12英寸CMP機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、...
    型號： POLI-762 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:55:56 對比

  • CMP拋光機

    POLI-500是小型8英寸CMP機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、S...
    型號： POLI-500 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:54:15 對比

  • cmp拋光機

    POLI-400Lcmp拋光機是4&6英寸小型化學機械拋光機，采用手動裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、STI、SO...
    型號： POLI-400L 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:51:45 對比

  • 半自動CMP拋光機

    CMP拋光機是一款針對薄膜（介質(zhì)層）的拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統(tǒng)，氣...
    型號： TMP-200S/... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:49:41 對比

  • CMP拋光機

    CMP拋光機是一款針對薄膜（介質(zhì)層）的拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統(tǒng)，氣...
    型號： TMP-150A/... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:47:31 對比

  • 全自動CMP拋光機

    全自動CMP拋光機是一款針對薄膜（介質(zhì)層）的全自動拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用自動化裝片方式，機械手自動取放片，同...
    型號： TPC-2110 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:45:36 對比

  • 半導體研磨拋光機

    半導體研磨拋光機是一款操作簡單的桌面型單面拋光設(shè)備，可搭配銅盤、錫盤、玻璃盤、不銹鋼盤等，配合不同類型的拋光液，適用于各種半導體材料的研磨拋光，滿足科研院校、企...
    型號： customize... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:47:42 對比

  • 化學機械拋光機CMP

    化學機械拋光機CMP簡介：1. 該化學機械拋光機可用于各類半導體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光。 通過更換拋光頭可兼容4、6、8...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 7:39:05 對比
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