2025/02/21
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智能程控勻膠機是一種高精密的旋轉涂膜設備，主要用于在各種基材表面均勻涂布薄膜材料。以下是其相關介紹：
工作原理：
通過片托產生負壓，將需要旋涂的基底材料吸附在片托上。然后，將涂覆材料的膠液滴注在基底材料表面。之后，設備通過調節電機轉速來改變離心力大小，使膠液在離心力作用下均勻地分布在基底材料上，同時控制膠液流量，從而獲得想要的薄膜厚度。
主要構造：
控制系統：一般內置電腦控制，擁有操作界面，常見的如 7 英寸的觸摸屏控制面板等，方便操作人員進行參數設置和程序編輯。
電機：提供旋轉動力，其性能決定了勻膠機的轉速范圍、轉速穩定性和加速度等關鍵參數。
腔體：用于放置待涂覆的基材和進行涂覆操作的空間。腔體的材質有多種選擇，如不銹鋼腔體、聚四氟乙烯腔體等，可根據不同的實驗需求和涂覆材料進行選擇。
真空裝置（部分型號具備）：幫助吸附基底材料，確保在旋轉過程中基底材料的穩定性，減少因基底移動而導致的涂覆不均勻問題。
技術參數67：
轉速范圍：200-10000RPM，不同的應用場景和材料需要不同的轉速。例如，對于一些粘度較高的膠液，可能需要較低的轉速；而對于需要更薄、更均勻薄膜的情況，則需要較高的轉速。
轉速精度：一般可達到 1rpm 或更高的精度，確保每次涂覆的重復性和一致性。
加速度：加速度也是一個重要參數，它決定了設備從起始轉速到設定轉速的加速過程的快慢，影響涂覆效果。
鍍膜尺寸：可適用于不同尺寸的基材，常見的鍍膜尺寸范圍在 φ10 至 100mm 左右。
功能特點：
程序控制：可以預先設置5組程序，每個程序又可以包含5個步驟，用戶可以根據不同的材料和工藝要求進行自定義編輯。
實時監控：能夠實時顯示旋涂速度、時間等參數，讓用戶可以直觀地了解涂覆過程的進展情況。
應用領域：廣泛應用于半導體、微電子、光學、生物醫學、新能源等領域5。例如，在半導體制造中用于光刻膠的涂布；在光學領域用于制備光學薄膜；在生物醫學領域用于制作生物傳感器的敏感膜等
