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? 可根據需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤
? 操作方面，數字顯示，帶背景燈
? 800W的加熱能力，快速加熱
? 轉速Z大可達到14，000rpm
? 強大磁力，輕松驅動攪拌子
? Z多可攪拌20L水
? 免維護的發動機，啟動順暢
? 溫度調節精度可至±1℃
? 高效率驅動，低效率消耗
? 包裹防腐蝕材料的硅合金機身，持久耐用
產品分類品牌分類
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產品簡介
詳細介紹
Heidolph 磁力攪拌器的優點
• 可根據需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤
• 操作方面，數字顯示，帶背景燈
• 800W的加熱能力，快速加熱
• 轉速zui大可達到14，000rpm
• 強大磁力，輕松驅動攪拌子
• zui多可攪拌20L水
• 免維護的發動機，啟動順暢
• 溫度調節精度可至±1℃
• 高效率驅動，低效率消耗
• 包裹防腐蝕材料的硅合金機身，持久耐用
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| 加熱攪拌MR Hei-End | 加熱攪拌MR Hei-Tec/Tec | 加熱攪拌MR Hei-Standard | 攪拌MR Hei-Mix D/L/S |
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加熱型磁力攪拌器MR Hei-End
高安全性能
• 800Ｗ加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
•優秀的熱傳導效率和分配性能
•優秀的防刮花和抗化學腐蝕性能
•加熱盤直徑: 145 mm
•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
•預設溫差△T, 當溫度偏離控制溫度達到預設定的溫度差時
•獨立線路開關自動停止加熱
•*避免錯誤的溫度設定
•速度范圍: 30 - 1,400 rpm
•出眾的溫度控制精度: ±1 %
•數字顯示速度和溫度（包括設定值和實際值）
•加熱盤溫度范圍: 20 - 300 °C
•介質溫度范圍:zui高 250
•精確溫度設定：±1K
•當停止加熱時, 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量
•照明開關
•三端雙向可控硅開關元件, 確保產品的使用壽命
•電子轉速限制, 保護發動機
•加強型大功率攪拌磁力發動機, 驅動攪拌子輕而易舉
•優秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）
加熱型磁力攪拌器MR Tec/Tec
適用于更高實驗要求
MR Hei-Tec
•800 W加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
•數字顯示設定溫度和實際溫度
•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C
•介質溫度范圍: zui高達 250°C
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
•當溫度偏離控制溫度達50°C時，獨立線路開關自動停止加熱
•照明開關
•電子溫度控制
（選配 EKT Hei-Con）
•精確溫度設定: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•介質溫度控制精度: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•三端雙向可控硅開關元件, 確保產品的使用壽命
•電子轉速限制, 保護發動機
•加強型大功率攪拌磁力發動機, 驅動攪拌子輕而易舉
•優秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）
MR Hei-Tec
•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
- 優秀的熱傳導效率和分配性能
- 優秀的防刮花和抗化學腐蝕性能
•加熱盤直徑: 145 mm
MR Hei-Tec [ ]
•與 MR Hei-Tec 參數*
•正方形加熱盤
•加熱盤由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成
•加熱盤尺寸 w x d （mm）: 132 x 132
加熱型磁力攪拌器MR Standard
適用于任何實驗室的標準攪拌器
MR Hei-Standard
• 800 W 加熱功率 （600 W 于 115/100 V）
•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C
•介質溫度范圍: zui高達 250°C
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
- 優秀的熱傳導效率和分配性能
- 優秀的防刮花和抗化學腐蝕性能
•加熱盤直徑: 145 mm
•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
•當溫度偏離控制溫度達50°C時，獨立線路開關自動停止加熱
•電子溫度控制
（選配 EKT Hei-Con）
•精確溫度設定: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•介質溫度控制精度: ±1K
（選配 EKT Hei-Con）
•三端雙向可控硅開關元件, 確保產品的使用壽命
•電子轉速限制, 保護發動機
•加強型大功率攪拌磁力發動機, 驅動攪拌子輕而易舉
•優秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）
磁力攪拌器MR Mix D/L/S攪拌單功能
MR Hei-Mix D
•數字顯示，電子速度控制
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•加強型大功率攪拌磁力發動機, 驅動攪拌子輕而易舉
•加熱盤材料為抗腐蝕不銹鋼 （V2A）
•加熱盤直徑: 145 mm
•延長操作時間, 亦只有極微熱量傳送至加熱盤
•推薦用于細胞生物學實驗室
MR Hei-Mix L
•與MR Hei-Mix D參數*, 無數字顯示
MR Hei-Mix S
•白色, 抗化學腐蝕 PVDF 加熱盤
•特別推薦用于滴定
•加熱盤直徑: 105 mm
•電子速度控制，無數字顯示
•大范圍速度設定: 0 - 2,200 rpm
•機身: 抗化學腐蝕材料聚氨酯
•zui小的空間需要:
126 ×80×140 mm （w × h × d）
