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普泰克(上海)制冷設備技術有限公司
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首頁 >> 技術文章 >> 普泰克-半導體專用溫控操作使用
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外觀與連接:檢查設備外殼無破損,電源線、信號線(如與工藝腔室的通訊線)、冷卻管路(水冷式)連接牢固,無松動或泄漏。
安全裝置:確認急停按鈕、超溫報警、過流保護等安全功能正常(可通過設備自檢模式驗證)。
溫控介質:若為液體溫控(如導熱油、去離子水),檢查介質液位在規定范圍(通常≥80%),無雜質或變質;若為氣體溫控(如氮氣),確認氣源壓力穩定(一般 0.4-0.6MPa),純度符合工藝要求(如≥99.999%)。
環境條件:設備工作環境需潔凈(Class 1000 及以上潔凈室)、無振動(振幅≤0.1μm)、溫度 18-25℃、濕度 40-60%,避免粉塵或腐蝕性氣體影響溫控精度。
根據生產工單明確工藝需求:目標溫度(如退火工藝可能為 1000-1200℃,光刻膠固化可能為 90-120℃)、溫控精度(通常 ±0.1℃,工藝需 ±0.01℃)、升溫速率(如 5-10℃/min)、保溫時間(如 30-60s)、溫控區域(單點溫控或多點分區溫控)。
確認溫控對象(如晶圓載臺、光刻鏡頭、反應腔內壁)的材質兼容性,避免溫控介質與對象發生化學反應(如金屬載臺需避免與酸性導熱液接觸)。
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