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什么是光刻膠？光刻工藝中使用的感光化學劑這意味著。這種液體化學劑用于需要精細加工的領域，例如半導體制造和印刷電路板圖案化。光致抗蝕劑具有響應光而發生化學變化的特性。
光刻膠主要有兩種類型：正型和負型。
正性光刻膠：
受到紫外線照射時發生化學反應，光刻膠溶解（溶解）。然后用顯影劑處理去除曝光區域，留下未曝光區域。
負性光刻膠：
暴露在紫外線下會發生化學反應，光刻膠變硬（不溶解）。然后用顯影液處理抗蝕劑，僅留下曝光區域并去除未曝光區域。
光刻膠是形成精細電路和圖案的bi備材料，其質量和性能直接影響產品的精度和可靠性。。制造過程（光刻）涉及光刻膠涂覆、曝光和顯影步驟，準確控制這些步驟非常重要。
