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等離子發(fā)光分析終點(diǎn)檢測儀

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產(chǎn)品型號EV-140C

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更新時間:2023-07-27 13:10:18瀏覽次數(shù):1211次

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產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,石油,建材,電子,汽車 這是一套分析放射性發(fā)光的終點(diǎn)監(jiān)測設(shè)備,為以等離子技術(shù)為基礎(chǔ)的半導(dǎo)體薄膜制程進(jìn)行終點(diǎn)檢定或等離子條件的監(jiān)控而研制。數(shù)學(xué)模型技術(shù)賦予它通過捕獲微弱信號的變化進(jìn)行終點(diǎn)檢定的能力。在放射性發(fā)光中捕獲微弱變化的能力顯著地提高了靈敏度。對于抗干擾性的改善確保了本設(shè)備在復(fù)雜環(huán)境下持續(xù)不停的生產(chǎn)線上獲得高穩(wěn)定的運(yùn)行。

 

特征

  • 布賴特光柵

布賴特光學(xué)系統(tǒng)是通過HORIBA Jobin Yvon制造的一個巨大的,直徑為70 mm的偏差糾正凹面光柵而實(shí)現(xiàn)的。凹面光柵本身的聚光能力使其具有 比短焦距車爾尼特納型光譜儀更為明亮的一套簡易光學(xué)系統(tǒng)架構(gòu),并且可以小化因?yàn)殓R面及其他反射面造成的反射損失。

  • 背光式CCD傳感器可以提供高靈敏度和高分辨度的2048個光學(xué)通道。

背光式CCD可以達(dá)到高量子效率,確保從紫外光到可見光之間的寬波段范圍內(nèi)獲得穩(wěn)定的分光鏡使用。高靈敏度的測量在紫外光波段,特別是在那些較少受到干擾影響的波長范圍,使終點(diǎn)監(jiān)測成為可能。

  • 專為*制程控制而準(zhǔn)備的Sigma-P軟件

應(yīng)制程控制的要求,此軟件可以執(zhí)行多種工序,從等離子體現(xiàn)象分析到測量數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫創(chuàng)建和生產(chǎn)設(shè)備的遠(yuǎn)程遙控。測量工序的可編程架構(gòu)設(shè)計(jì)使其可以對多重監(jiān)測和時序處理進(jìn)行設(shè)定。它賦予檢測器不僅可以被用于終點(diǎn)監(jiān)測,同時也可以被廣泛的用于等離子體環(huán)境下的監(jiān)測。

 

  • 這是一種對于等離子體異常情況進(jìn)行報警的*設(shè)計(jì),也可以通過利用2種波長之間的變換系數(shù)來指導(dǎo)終點(diǎn)測量。
  • 全回收功能

一旦收集到光譜學(xué)的數(shù)據(jù)后,對制程優(yōu)化或者終點(diǎn)監(jiān)測的模擬可以通過應(yīng)用新的制程設(shè)計(jì)反復(fù)進(jìn)行。

 

  • 一個用于識別等離子中發(fā)光類別的數(shù)據(jù)庫已經(jīng)包含在內(nèi)
  • 光譜學(xué)數(shù)據(jù)可以轉(zhuǎn)換成一個時距記錄曲線圖,或者可以通過屏幕格式,把操作波形,比對參考數(shù)據(jù)獲得的相對計(jì)算波形和其他信息顯示出來。
  • 為時間記錄圖分析而準(zhǔn)備的自動圖形軟件

從巨大并伴隨干擾的光譜數(shù)據(jù)中發(fā)現(xiàn)細(xì)微的圖形差異是一個艱巨的挑戰(zhàn)。自動圖形軟件將自動地找到圖形變化的特征并測定為合適的終點(diǎn)波長。

  • 強(qiáng)大的終點(diǎn)數(shù)學(xué)模型。
  • 通過使用客戶波長范圍的計(jì)算波形和過濾系統(tǒng),終點(diǎn)可以被準(zhǔn)確的發(fā)現(xiàn)。在接近2個區(qū)域的2條直線的交叉點(diǎn),發(fā)展的數(shù)學(xué)模型賦予機(jī)臺穩(wěn)定的監(jiān)測細(xì)微變化的性能。此功能確保各點(diǎn)的變化準(zhǔn)確地從干擾中被區(qū)分出來,正如終點(diǎn)在微小開放區(qū)域內(nèi)的細(xì)號變化,都能被準(zhǔn)確的監(jiān)測。
  • 超出微小開放區(qū)域(<0.2%)的蝕刻監(jiān)測。

當(dāng)頻率率波器將干擾信號從原始信號中過濾掉后,不同信號(粉色線)在圖形中的比率(黑色線)變化(上升(A+B+C)/減小(D+E+F))可以使我們準(zhǔn)確監(jiān)測到終點(diǎn)的位置。

  • 制程設(shè)計(jì),一種伴隨分析結(jié)果同步自動完成的制程生成軟件(選擇項(xiàng)軟件)
  • 制程設(shè)計(jì)是自動圖形分析工具的一種衍生版本。它賦予使用者通過在顯示器上實(shí)時的分析和模擬,生成數(shù)學(xué)模型。這種數(shù)學(xué)模型可以很容易地被構(gòu)建到真實(shí)的制程里。對于那些微弱和復(fù)雜的發(fā)光類別型的終點(diǎn)監(jiān)測, 或者因制程條件的變化而不能被發(fā)現(xiàn)的終點(diǎn)監(jiān)測,或者類似情況,這種設(shè)計(jì)可以使制程研制的負(fù)擔(dān)大大減輕。
  • *步:自動分離出波長變化的圖形;
  • 第二步:使用接近的2條直線,鑒定出變化點(diǎn);
  • 第三步:通過完整的數(shù)學(xué)模型進(jìn)行的EDP模擬管理可以被輸出和構(gòu)建到Sigma-P中;*的統(tǒng)計(jì)處理:反饋給制程。
  • 統(tǒng)計(jì)處理編輯可以從大量不同的視圖中分析日志數(shù)據(jù),幫助提高異常分析和缺陷率。分析的結(jié)果可以被反饋到測量當(dāng)中。

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