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勻膠旋涂儀WS-650在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使膠液均勻涂覆在基片上，旋轉速度及時間、膠液和基片間的粘滯系數都會影響成膜厚度，旋轉過程及轉動系統的穩定性對成膜質量也有較大影響。

1.樣品尺寸：φ3~300mm

2.加速度：80000rpm/s（空載），30000rpm/s（負載：100mm標準晶圓）

3.轉速：1~12000rpm，伺服電機分辨率4000P/rev

4.旋轉方向：選配Hz型馬達，旋轉方向雙向可調

5.CDA/N2氣流保護技術

6.可選自動滴膠模塊，EBR晶圓去邊模塊

7.多種托盤可選，適用各種材質的樣品

勻膠旋涂儀托盤解決方案

1.常用真空托盤：10~150mm無需更換。

2.嵌入式：托盤中部做成圓形凹槽，樣品可嵌入其中，以避免樣品厚度過大引起氣體渦流效應。

3.蜂窩式：適用于超薄易變形軟質材料和易碎材料。

4.卡式托盤：適用于無法真空吸附的樣品，或者兩面都需要處理的樣品，因為固定時需要盡量減小與托盤的接觸面積，也可以使用卡式托盤，卡式托盤使用時轉速不宜過高。