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寫真化學(xué)厚度監(jiān)視器評估多晶硅的結(jié)晶度
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貨物所在地:北京北京市

地: 日本

更新時間:2024-11-02 14:44:31

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反射涂層厚度監(jiān)測儀是一種光學(xué)干涉反射光譜涂層測厚儀,它使用微型反射探頭,可應(yīng)用于從實驗室級別到生產(chǎn)過程中的在線檢查的所有情況。 它具有出色的可維護性,可用于集成到工藝設(shè)備和生產(chǎn)線管理應(yīng)用中。

反射涂層厚度監(jiān)測儀是一種光學(xué)干涉反射光譜涂層測厚儀,它使用微型反射探頭,可應(yīng)用于從實驗室級別到生產(chǎn)過程中的在線檢查的所有情況。 它具有出色的可維護性,可用于集成到工藝設(shè)備和生產(chǎn)線管理應(yīng)用中。
最多可同時測量 9 種類型的透明膜。
它具有出色的可維護性,可用作工藝設(shè)備或生產(chǎn)線管理應(yīng)用的集成。
例如,在沉積、拋光和蝕刻過程中,它可以用作在線監(jiān)視器或終點監(jiān)視器(終點檢測傳感器),從而實現(xiàn)薄膜厚度的實時監(jiān)控(實時監(jiān)控)。
它還可用于評估多晶硅的結(jié)晶度和多孔薄膜的密度。

  • 多晶硅結(jié)晶度的評價

  •  

  • 多孔膜的密度評估

  •  

  • 使用旋涂機進行終點檢測的視頻



    • 微型光纖探頭

    • 通過采用高度為 30 mm 的小探頭,它可以安裝在設(shè)備的狹小空間內(nèi)。


    • 膜厚測量再現(xiàn)性:0.1 nm 或更小 (3σ)


    • 同時測量多層薄膜,9 層


    • 通過有效介質(zhì)近似 (EMA) 方法計算混合層的混合速率,并測定結(jié)晶度

    • 光學(xué)常數(shù)分析

    • 膜質(zhì)量分析功能



    • 可根據(jù)用途選擇的光源


    • 自動映射測量(可選)

    • 操作示例1:Endpoint Monitor
      的Demo 1操作示例2:Endpoint Monitor的Demo 2


    • 自動映射測量(可選)

推薦環(huán)境條件

溫度: 設(shè)定點在 18 ~ 45°C 范圍內(nèi)
長期變化: ±2.0°C/24 小時或更長時間(參考設(shè)定點)
短期變化: ±1.0°C/1 小時×1 周期(參考設(shè)定點)
濕度:45% ± 20%(無冷凝)



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