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SKSATO佐藤: 電阻 PH計折光儀糖度儀水分儀雨量計顯示器記錄儀風(fēng)速計溫度計

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GREISINGER格雷: 氣壓計一氧化碳計氧濃度計酸度計電導(dǎo)率儀水分計

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KYOWA共和

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SUGIYAMA杉山電機

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MIYUKI美幸輝

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AS ONE亞速旺

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CHROMA科諾瑪

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產(chǎn)品簡介詳細介紹

最大 300 mm的晶圓厚度測厚儀，自動對位功能和使用具有高平整度的晶圓卡盤可實現(xiàn)可靠的薄膜厚度測量。此外，它可以安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備的負載端口，以在保持清潔度的同時管理制造設(shè)備上的薄膜厚度。

長處

映射涂層測厚儀能夠在最大 300 mm 的晶圓的所有表面上自動映射膜厚測量。自動對位功能和使用具有高平整度的晶圓卡盤可實現(xiàn)可靠的薄膜厚度測量。此外，它可以安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備的負載端口，以在保持清潔度的同時管理制造設(shè)備上的薄膜厚度。

1
能夠?qū)ψ畲?300 mm 的晶圓的整個表面進行自動涂層厚度映射測量

2
自動對位功能

通過自動檢測缺口和無花柱位置，以及自動檢測晶圓偏心率，實現(xiàn)高精度測量。

3
通過使用具有高平整度的晶圓卡盤，提高晶圓表面的測量可靠性

4
可根據(jù)應(yīng)用選擇三種類型的光源。

5
透明蓋，便于在測量過程中查看運動

6
一體化節(jié)省空間的設(shè)計

測量數(shù)據(jù)示例（2D 膜厚分布）層壓晶圓的硅
厚度（nm）
測量數(shù)據(jù)示例（3D 薄膜厚度分布）層壓晶圓的硅厚度
（nm）
測量數(shù)據(jù)示例（薄膜厚度的頻率分布）層壓晶圓中的硅厚度
測量數(shù)據(jù)示例（多個晶圓的膜厚分布箱線圖）5 個晶圓的膜厚分布趨勢

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長處

能夠?qū)ψ畲?300 mm 的晶圓的整個表面進行自動涂層厚度映射測量

自動對位功能

通過使用具有高平整度的晶圓卡盤，提高晶圓表面的測量可靠性

可根據(jù)應(yīng)用選擇三種類型的光源。

透明蓋，便于在測量過程中查看運動

一體化節(jié)省空間的設(shè)計

測量數(shù)據(jù)示例（2D 膜厚分布）層壓晶圓的硅
厚度（nm）

測量數(shù)據(jù)示例（3D 薄膜厚度分布）層壓晶圓的硅厚度
（nm）

測量數(shù)據(jù)示例（薄膜厚度的頻率分布）層壓晶圓中的硅厚度

測量數(shù)據(jù)示例（多個晶圓的膜厚分布箱線圖）5 個晶圓的膜厚分布趨勢

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