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        PICOSUN™ R-200高級型ALD系統是ALD科研設備市場的，在擁有百用戶。它已經成為一些創新公司和研究機構的研發工具。

        靈活的設計確保沉積高質量的ALD薄膜，超靈活的系統配置也能滿足用戶未來的需求和應用。的熱壁設計、獨立的前驅體管路和特殊的載氣設計，使得無顆粒沉積廣泛應用于平面晶圓、3D基片和所有納米尺度的材料。即使在挑戰性的多孔材料、超高深寬比和納米顆粒表面沉積，系統都能實現的均勻性，這些都歸功于我們的技術Picoflow™。Picosun™R-200高級型系統配備功能強大和易于更換的液體、氣體和固體前驅體源。高效率和擁有的遠程等離子選項可以沉積金屬而不發生短路，不存在等離子體損壞的危險。系統可集成手套箱，超高真空系統、手動或半自動加載系統，集群系統，粉末反應腔，卷對卷反應腔和各種在線分析系統，使您的研究變得高效和靈活。即使將來您改變研究領域，它依就會是您幫手！