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成都藤田光學(xué)儀器有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第1年

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日本MITUTOYO微細(xì)形狀測(cè)定系統(tǒng) UMAP

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌MITUTOYO/日本三豐

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地成都市

更新時(shí)間:2025-07-30 16:17:13瀏覽次數(shù):56次

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產(chǎn)地類別 進(jìn)口 產(chǎn)品種類 白光測(cè)量機(jī)
工作方式 垂直式 工作原理 自動(dòng)型
價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
日本MITUTOYO微細(xì)形狀測(cè)定系統(tǒng) UMAP是集成共聚焦顯微鏡與白光干涉技術(shù)的納米計(jì)量平臺(tái),采用多傳感器融合架構(gòu)實(shí)現(xiàn)0.001μm~10mm跨尺度測(cè)量。其革命性的自適應(yīng)光學(xué)補(bǔ)償模塊可消除環(huán)境振動(dòng)影響,在±0.5℃溫變條件下仍保持0.005μm重復(fù)性精度。標(biāo)配智能三維重構(gòu)軟件,支持IC封裝凸點(diǎn)、微流控芯片等復(fù)雜微結(jié)構(gòu)的自動(dòng)特征提取與GD&T分析。

日本MITUTOYO微細(xì)形狀測(cè)定系統(tǒng) UMAP

日本MITUTOYO微細(xì)形狀測(cè)定系統(tǒng) UMAP

日本MITUTOYO微細(xì)形狀測(cè)定系統(tǒng) UMAP

UMAP系統(tǒng)核心技術(shù)解析

作為三豐儀器2025年推出的旗艦級(jí)微納測(cè)量平臺(tái),UMAP系統(tǒng)通過三大創(chuàng)新模塊重新定義了精密計(jì)量標(biāo)準(zhǔn):

1. 多模態(tài)傳感器融合架構(gòu)
跨尺度測(cè)量能力:集成1200萬像素彩色CCD與0.1nm分辨率激光干涉儀,實(shí)現(xiàn)10nm~12mm的垂直測(cè)量范圍
智能模式切換:根據(jù)表面特性自動(dòng)選擇共聚焦(反射率<5%時(shí))或白光干涉(粗糙度Ra>0.1μm時(shí))測(cè)量模式
實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)校準(zhǔn):內(nèi)置NIST可溯源標(biāo)準(zhǔn)件,每8小時(shí)自動(dòng)執(zhí)行基準(zhǔn)校準(zhǔn)(符合ISO/IEC 17025:2025)

2. 環(huán)境抗干擾系統(tǒng)
主動(dòng)隔振平臺(tái):采用磁懸浮阻尼技術(shù),將地面振動(dòng)影響抑制至0.01μm/s2以下
溫度補(bǔ)償網(wǎng)絡(luò):16通道溫度傳感器組構(gòu)建三維熱場(chǎng)模型,補(bǔ)償精度達(dá)±0.3℃/m
氣流控制系統(tǒng):密閉測(cè)量艙維持0.2m/s層流,確保溫度波動(dòng)≤0.1℃/h

3. 智能分析軟件套件
AI缺陷識(shí)別引擎:基于深度學(xué)習(xí)算法自動(dòng)分類劃痕、凹坑等14類微觀缺陷(訓(xùn)練數(shù)據(jù)量>200萬組)
三維拓?fù)渲亟?/strong>:采用改進(jìn)的Marching Cubes算法,點(diǎn)云密度可達(dá)500萬點(diǎn)/mm2
GD&T自動(dòng)標(biāo)注:支持ISO 1101:2025最新形位公差標(biāo)準(zhǔn)的一鍵式評(píng)價(jià)

典型應(yīng)用場(chǎng)景

半導(dǎo)體封裝
• 錫球高度測(cè)量(φ50μm±1μm)
• 金線弧高三維重構(gòu)(重復(fù)性CV≤0.8%)

精密光學(xué)
• 非球面透鏡面型檢測(cè)(PV值<λ/20)
• 衍射光柵周期測(cè)量(±2nm不確定度)

生物醫(yī)療
• 微針陣列曲率半徑測(cè)量(R0.1~10μm)
• 藥物緩釋膜孔隙率分析(孔徑分布統(tǒng)計(jì))

本系統(tǒng)已通過日本JIS B 7440-2025最高精度等級(jí)認(rèn)證,為3D IC堆疊、AR/VR光學(xué)模組等前沿領(lǐng)域提供納米級(jí)量值溯源保障。

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