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  • 現貨庫存:KASHIYAMA日本樫山工業真空泵

    現貨庫存:KASHIYAMA日本樫山工業真空泵MU180P/H無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。

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  • 現貨庫存:KASHIYAMA日本樫山工業真空泵

    現貨庫存:KASHIYAMA日本樫山工業真空泵MU1218P/H無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。

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    現貨庫存:KASHIYAMA日本樫山工業真空泵MU30N18P無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。

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  • 中村供貨:KASHIYAMA日本樫山工業真空泵

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  • KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry300E

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  • KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry15G

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  • KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry30G

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  • KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry36G

    KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry36G無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。

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