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光刻工藝設備產品概述：應用于3D封裝、LED、微機電系統、化合物半導體、功率器件等領域主要配置：自動對準、自動曝光、LED光源、機器視覺對準系統、高精度硅片承載...

CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產品。該設備采用數字光刻技術，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉移到涂有光刻膠的襯底上。CG-MLC6系列功能靈活、...

半自動光刻機產品概述：應用于3D封裝、LED、微機電系統、化合物半導體、功率器件等領域主要配置：自動對準、自動曝光、LED光源、機器視覺對準系統、高精度硅片承載...

實驗室無掩膜曝光機CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產品。該設備采用數字光刻技術，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉移到涂有光刻膠的襯底上。CG-ML...