測量系統(tǒng)規(guī)格

基本功能：獲取薄膜厚度值以及R、N/K等光譜

光譜分析范圍：380nm-1000nm

測量光斑大小：標準1.5mm，最小0.5mm

膜厚重復(fù)性測量精度：0.02nm（100nm 硅基SiO2樣件，100次重復(fù)測量）

膜厚精度：0.2%或2nm之間較大者

膜厚測量范圍：15nm-70μm

測量n和k值厚度要求：100nm以上

單點測量時間：≤ 1s

光源：標準鹵燈光源（光源壽命2000小時）

分析軟件：多達數(shù)百種的光學(xué)材料常數(shù)數(shù)據(jù)庫，并支持用戶自定義光學(xué)材料庫；提供多層各向同性光學(xué)薄膜建模仿真與分析功能

樣品臺規(guī)格：

基板尺寸：支持樣件尺寸到150*150mm(可升級定制不同尺寸樣品臺)

測控與分析軟件

光譜測量能力：反射率光譜測量

數(shù)據(jù)分析能力：膜厚分析能力，光學(xué)常數(shù)（折射率和消光系數(shù)）

支持常用光學(xué)常數(shù)模型以及常用振子模型（柯西模型、洛倫茲模型、高斯模型等）；

支持用戶自定義，可離線分析軟件模擬實際測量，支持Windows 10操作系統(tǒng)