LeicaEMACE600高真空鍍膜儀是一款多功能型高真空鍍膜系統，用于制備超薄，細顆粒的導電金屬膜和碳膜，以適用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的鍍膜要求。

　　這一款全自動臺式鍍膜儀，包含內置式無油真空系統，石英膜厚監控系統和馬達驅動樣品臺（旋轉為標配，傾斜和高度馬達驅動為選配）。

　　特點

　　LeicaEMACE600高真空鍍膜儀可以配置如下鍍膜方式:金屬濺射鍍膜、碳絲蒸發鍍膜、碳棒蒸發鍍膜（帶有熱阻蒸發鍍膜選配件）、電子束蒸發鍍膜輝光放電連接VCT樣品交換倉，與徠卡EMVCT配套實現冷凍鍍膜，冷凍斷裂，雙復型，冷凍干燥和真空冷凍傳輸

　　適合廣泛應用領域的高真空鍍膜系統：EMACE600濺射鍍膜機裝有可配置式金屬處理室，十分靈活，適合廣泛的應用領域。實現工作流程目標，滿足實驗室需求——可在同一個制備過程中運行兩個不同的濺射源，還可配置EMACE600用于高級冷凍工作流程。

　　通過方便的前門裝載方法、僅需按下一個按鈕即可啟動的收料即鍍式自動化鍍膜過程，EMACE600可以讓您簡單可靠地制備常規樣本并節省寶貴的時間。

　　優勢對扁平或結構化的非導電樣本進行高分辨率成像，增強納米級結構（如蛋白質或DNA鏈）的對比度生成透射電鏡(TEM)載網的薄而堅固的支撐層，或者為敏感樣本提供保護層。

　　擴展冷凍應用中的系統使用EMACE600碳鍍膜和濺射鍍膜機，皆可實現。

　　通過濺射鍍膜獲得可重現的高品質薄膜，使用EMACE600高真空鍍膜系統，每次運行均可始終一致地生成高品質的濺射鍍膜薄膜。使用收料即鍍的自動化濺射鍍膜工藝，滿足優良鍍膜所需的適當條件并實現可重現的結果。

　　可進行高達200kX的高放大倍率掃描電鏡(SEM)分析，具有出色的基礎真空度（<2x10-6mbar），可為各種不同的濺射靶材仔細均衡調整工藝參數。根據樣本形態的需要調整樣本距離和鍍膜角度。

　　為進一步加強鍍膜效果，可以使用Meissner捕集器將真空度提高到10-7mbar，之后再嘗試對氧敏感的濺射靶材或樣本材料。

　　超薄碳膜碳鍍膜在電鏡領域的應用十分廣泛。它需要具有導電性，但對電子束透明，并且不能具有顆粒結構。

　　采用自適應脈沖方法的EMACE600碳絲所生成的薄膜，厚度精確、堅固并具有導電性，還可以通過烘焙法進一步減少污染。最終，這類薄膜提供：

　　對電子的高透明度足以承受電子轟擊的強度均勻的厚度，這對于分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關重要

　　按需配置EMACE600通過EMACE600的大型可配置金屬處理室，可在不破壞真空的情況下用一臺鍍膜機運行多個制程。同時，將濺射頭與優良的碳絲蒸發器結合使用或者選用兩個濺射源，可在一次制備過程中完成多層金屬鍍膜。

　　采用經過優化的帶兩個斜角端口和一個旋轉臺的雙源方法，可在整個100毫米樣本臺上生成均勻分布的薄膜。

　　有穩定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機濺射源可供選擇為您的EMACE600裝配輝光放電濺射功能：可隨時在現場升級專注于制備過程的關鍵部分使用EMACE600碳鍍膜和濺射鍍膜機，只需按下一個按鈕即可讓您充滿信心地完成常規樣本制備。簡單可靠的工作流程和便捷的標準操作程序讓您能夠專注于電鏡樣本制備的關鍵部分。您可以專注于優化工作流程，減少自己學習操作方法或培訓他人使用方法的時間。

　　通過前門安全裝卸敏感樣本基于工作流程的用戶界面，可快速訪問相關參數，全程引導式操作。

　　輕量、穩定的濺射源，方便日常操作。

　　擴展至冷凍工作流程：

　　在冷凍條件下為樣本鍍膜，提升實驗室電鏡實驗能力。將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜后，通過EMVCT500傳輸系統將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡，EMACE600碳鍍膜和濺射鍍膜機可幫助制備樣本用于研究，如在生物樣本原生和水合狀態下的結構分析。

　　EMACE600提供：

　　用于傳輸冷凍樣本的接口。

　　用于低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍臺。

　　基本型斷裂裝置選擇優化配置配置EMACE600碳鍍膜和濺射鍍膜機，滿足實驗室日常工作需求。

　　有各種樣本支架和樣本臺可供選擇，例如帶有多達3個電動軸的3軸樣本臺或專用冷卻臺。可快速更換的樣本臺基片使EMACE600成為多功能工具。

　　旋轉投影—使納米級結構清晰可見以專用小角度旋轉投影（LARS）設置配置EMACE600，可在透射電鏡中對納米級結構（如蛋白質或DNA鏈）成像。EMACE600電子束源與電動LARS樣本臺將指令、低熱損傷影響、薄膜沉積與優化的樣本臺幾何結構相結合，可實現掠角入射沉積。用細粒度鉑層以小角度對DNA鏈進行投影鍍膜，然后添加碳層穩定脆性結構，以便在TEM中進行分析。