液晶檢查顯微鏡簡述

來源：上海力陽實業(yè)有限公司 2017年07月07日 10:45

主要特點：

UIS無限遠校正光學系統(tǒng)，提供出色的圖像質(zhì)量；

人機工程學的進一步改善，使操作更為舒適；

多種高度功能化的附件，能滿足各種檢驗需要。

用途：

針對半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、治金工業(yè)開發(fā)的，作為工業(yè)顯微鏡使用。可進行明暗場觀察、落射偏光、DIC觀察，廣泛用于工廠、研究機構、高等院校對硅片、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。

優(yōu)點：

配有大移動范圍的載物臺、落射照明器、平場無限遠長工作距離明暗場物鏡、大視野目鏡、圖像清晰，襯度好。

優(yōu)勢：

緊湊的Y型勻設計，穩(wěn)定且占地小；

新的光路設計，光效率更高，采用長壽命鹵素光源；

反射鏡體，可用于明場、簡易偏光、微分干涉相襯觀察；

顯微鏡本體，反射照明器，物鏡轉(zhuǎn)換器都采用防靜電設計(ESD)。

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